[发明专利]光学元件及其制造方法、图像提取装置无效

专利信息
申请号: 200910137704.2 申请日: 2009-04-27
公开(公告)号: CN101738658A 公开(公告)日: 2010-06-16
发明(设计)人: 廖敏智;邓兆展;张维中 申请(专利权)人: 采钰科技股份有限公司
主分类号: G02B5/08 分类号: G02B5/08;H01L27/146;B29C43/18;B29C43/36;B29D11/00
代理公司: 隆天国际知识产权代理有限公司 72003 代理人: 姜燕;陈晨
地址: 中国台*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要:
搜索关键词: 光学 元件 及其 制造 方法 图像 提取 装置
【权利要求书】:

1.一种光学元件,包括

一基板,以及

一光学结构,形成于该基板上,该光学结构具有至少一无效区及有效区,其中该无效区具有一粗糙表面。

2.如权利要求1所述的光学元件,其中该无效区具有一100-10000nm的表面粗糙度。

3.如权利要求1所述的光学元件,其中该无效区具有一500-5000nm的表面粗糙度。

4.如权利要求1所述的光学元件,其中该光学结构为一镜片。

5.一种图像提取装置,包括

一基板;

一光学结构,形成于该基板之上,以及

一间隙物,其包括一微结构,该间隙物借由一粘着剂接合于该基板上,其中该微结构位于该粘着剂与该光学结构之间,以阻隔该粘着剂的溢流。

6.如权利要求5所述的图像提取装置,其中该微结构与该基板实质上贴合接触。

7.如权利要求5所述的图像提取装置,其中该微结构围绕该粘着剂。

8.如权利要求5所述的图像提取装置,其中该光学结构包括至少一有效区及无效区。

9.如权利要求8所述的图像提取装置,其中该微结构位于该无效区及该粘着剂之间。

10.一种光学元件的制造方法,包括

提供一基板;

提供一模件,其具有至少一光滑表面部分及至少一粗糙表面部分,以定义出一光学结构的形状;

压合该模件及该基板,其中该基板上具有一复制材料;

将该复制材料局限于该基板上的一特定区域,其中该特定区域的范围大于该光学结构的范围;

硬化该复制材料以形成该光学结构,该光学结构包括至少一有效区及一无效区。

11.如权利要求10所述的光学元件的制造方法,其中该无效区具有一100-10000nm的表面粗糙度。

12.如权利要求10所述的光学元件的制造方法,其中该无效区具有一500-5000nm的表面粗糙度。

13.如权利要求10所述的学元件的制造方法,其中该粗糙表面部分控制该复制材料的流动方向。

14.如权利要求10所述的学元件的制造方法,其中该光学结构为一镜片。

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