[发明专利]投影光学系统、曝光装置以及器件制造方法

权利要求书

1.一种投影光学系统，使用于一边在扫描方向上对底版以及基 板进行扫描，一边对上述基板进行曝光的曝光装置中，在从配置有上 述底版的物体面至配置有上述基板的像面的光路中依次配置有第一 凹反射面、凸反射面、第二凹反射面，将配置于上述物体面上的物体 的像投影到上述像面，该投影光学系统的特征在于，具备：

配置在上述光路中的第一折射光学单元以及第二折射光学单元；

第一致动器，对上述第一折射光学单元进行驱动；以及

第二致动器，对上述第二折射光学单元进行驱动，

上述第一折射光学单元以及上述第二折射光学单元分别具有两 个以上的柱状面，

上述第一致动器变更上述第一折射光学单元的两个以上的柱状 面的间隔，以使在上述像面上的上述扫描方向上的投影倍率成为第一 目标投影倍率，

上述第二致动器变更上述第二折射光学单元的两个以上的柱状 面的间隔，以使在上述像面上的相对于上述扫描方向垂直的方向上的 投影倍率成为第二目标投影倍率。

2.根据权利要求1所述的投影光学系统，其特征在于，

上述第一折射光学单元以及上述第二折射光学单元的至少一方 包括具有第一面以及第二面的折射光学元件，上述第一面是柱状面， 上述第二面是球面或非球面。

3.根据权利要求1所述的投影光学系统，其特征在于，

上述第一折射光学单元配置在上述物体面与上述第一凹反射面 之间，上述第二折射光学单元配置在上述第二凹反射面与上述像面之 间。

4.根据权利要求1所述的投影光学系统，其特征在于，

在上述物体面与上述像面之间还具备使上述投影光学系统的光 轴折弯的反射镜。

5.一种曝光装置，用于对基板进行曝光，该曝光装置的特征在 于，

具备权利要求1～4中的任意一项所述的投影光学系统，通过上 述投影光学系统将底版的图案投影到基板来对该基板进行曝光。

6.一种器件制造方法，其特征在于，包括：

通过权利要求5所述的曝光装置对涂敷有感光剂的基板进行曝 光的工序；以及

使该感光剂显影的工序。