[发明专利]图像形成设备、图像形成方法以及打印媒介有效

专利信息
申请号: 200910141275.6 申请日: 2009-05-18
公开(公告)号: CN101581899A 公开(公告)日: 2009-11-18
发明(设计)人: 松岛由纪 申请(专利权)人: 株式会社理光
主分类号: G03G15/00 分类号: G03G15/00;G03G15/20;G03G15/01
代理公司: 北京银龙知识产权代理有限公司 代理人: 许 静
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 图像 形成 设备 方法 以及 打印 媒介
【说明书】:

技术领域

本发明涉及可以获得高光泽度、高彩度图像的图像形成设备、图像形成方 法以及打印媒介,尤其涉及使用电子照相方式的彩色复印机、彩色打印机、彩 色传真机等的图像形成设备的技术。

背景技术

一般地,彩色照相与文字图像或线图像相比,在图像的色阶性、粒状性、 颜色再现性等画质上被要求有很好的特性,而且还希望有照相表面的光泽性。 亦即,希望做成如镜面那样,具有光泽性或在绸纹照相纸等粗糙面(mat)上做 成照片。

即使是电子照相,为了将图像表面做成镜面,通过在透光媒介里形成图像, 并在透光媒介的图像载置面里粘帖衬里层,就可以做成富有光泽性的照相(参 照专利文献1、2)。

专利文献1所记载的设备,在透光媒介基底里形成图像,并在透光媒介基 底的图像载置面里粘帖衬里层,透光媒介基底的表面就成为照片的表面,即可 做成富于光泽性的照片。专利文献2所记载的设备,将色材层形成于透光媒介 和反光媒介中的一方里,在另一方里将加热后具有粘结性的媒介全体均匀附着 后,通过粘合两者定影后做成一张光泽图像。

【专利文献1】特开平7-72695号公报

【专利文献2】特开2006-229085号公报

【专利文献3】特开2006-171607号公报

如上所述,在将电子照相中透光媒介里形成图像的样本(sample)作为反射 样本时,本发明的发明者通过实验确认,不是如专利文献1、2所述地光学地 密接透光媒介和反光媒介,反而是不进行光学密接的做法更能提高再现颜色的 彩度。

关于光学密接,使用图1来做说明。图1(a)是光学密接的状态(以下称为 “有光学密接”),图1(b)是没有光学密接的状态(以下称为“无光学密接”)。 亦即,由通常的电子照相工序做成的样本相当于“有光学密接”的样本,而调 色剂(色材)层和纸张之间存在着空气层的时候,相当于“无光学密接”的样本。

还有,相对于电子照相中的透光媒介里形成全部CMY图像的样本,以“有 /无光学密接”来做成反射样本,并实际测定彩度后的例子如图1(c)的a*b *平面所示。由图1(c)可知,“无光学密接”的样本的彩度较为提高。

以下,对其理由进行说明。

(1)比起“有光学密接”来,“无光学密接”之单位面积所承受的光的强度 要大。

通过图2、图3(a)、(b)来说明这一点。这些图表示了以45度入射的光到 以0度受光为止的光的行进情况(但不包括后叙理由(2)的多重反射成分,是反 射率中的第一项)。图2所示是在纸张上面仅有空气时的状态,图3(a)所示是 纸和调色剂层进行光学密接的状态,图3(b)所示是没有光学密接的状态。图2、 图3(a)、(b)中,光在纸上呈均等扩散,并且在立体角Ω里包含了α的光束。

如图3(a)所示为有光学密接的情况,当扩散光从调色剂层进入到空气层 时,遵循菲涅尔(Fresnel)法则,在空气中变为立体角Ω1(>Ω),亦即扩散后 传播。其结果是,α的光束通过的是比图2所示面A的面积要n2倍的面B。这 里的n是调色剂层的折射率。亦即,图3(a)所示情况下的光强度(光的密度) 比图2所示情况要减小。

在图3(b)所示为没有光学密接的情况,当扩散光从空气层进入到调色剂 层时,遵循菲涅尔(Fresnel)法则,在调色剂层中变为立体角Ω2(<Ω),亦即 变窄后传播。接着,因为从调色剂层进入到空气层时再次遵循菲涅尔(Fresnel) 法则,在空气中回到立体角Ω后传播。其结果是,α的光束通过的是与图2所 示面A的面积相同的面C。亦即,图3(b)所示情况下,因为光强度(光的密度) 与图2所示情况相等,比起“有光学密接”来,“无光学密接”由测定机器所 受光的单位面积所的光强度要大,反射率要高。

本发明的发明者使用简单的光线追踪来验证后的结果是,当调色剂层的折 射率为1.5时,“无光学密接的反射率”与“有光学密接的反射率”的比例(rate) 约为2.14。

(2)反射光里多重反射光所占的比例越大,“有光学密接”和“无光学密接” 的反射率之间的差越小。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社理光,未经株式会社理光许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200910141275.6/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top