[发明专利]采用涂有紫外线辐射反应材料的结构进行印刷的方法

权利要求书

1.一种用于印刷具有电性能的图案的设备，该设备包括：

压印模，其包括图案化的转移表面，该图案化的转移表面能够 将印刷材料从所述压印模转移到基板上，以在所述基板上建立印刷电 路元件；

用于按照对应于电路设计的图案、将紫外线辐射反应材料施加 到所述图案化的转移表面上的机构，其中，所述紫外线辐射反应材料 对波长小于400纳米的紫外线辐射起反应，在受到所述紫外线辐射后 能够改变其状态、化学结构、化学构型或消融；

用于将印刷材料施加到所述图案化的转移表面上作为涂层的机 构；

光化光源；及

用于使用所述压印模将所述图案化的转移表面上的所述印刷材 料转移到工件的工作表面上的机构。

2.权利要求1所述的设备，其中所述压印模的至少一部分由能 够让紫外线辐射透过的材料制成。

3.权利要求1所述的设备，其中所述压印模的至少一部分由能 够让辐射波长小于400纳米的紫外线辐射透过的材料制成。

4.权利要求1所述的设备，其中所述图案化的转移表面包含高 度在1纳米到1毫米的范围内、并且间距在1纳米到1毫米的范围内 的凸起形状的结构。

5.权利要求1所述的设备，其中所述紫外线辐射反应材料包含 至少一种自由基引发剂。

6.权利要求1所述的设备，其中所述紫外线辐射反应材料能够 改变所述压印模的表面能量，所述紫外线辐射反应材料的表面能量在 紫外线照射前应介于所述压印模与所述印刷材料的表面能量之间，在 紫外线照射时其表面能量则下降。

7.权利要求1所述的设备，其中所述紫外线辐射反应材料包含 选自过氧化苯甲酰和偶氮二异丁腈中的至少一种自由基引发剂、或者 包含至少一种偶氮苯材料。

8.权利要求1所述的设备，其中所述紫外线辐射反应材料在所 述图案化的转移表面印刷表面上形成均匀的结构。

9.权利要求1所述的设备，还包括在将紫外线辐射反应材料施 加到所述图案化的转移表面上的同时、用于将与之不同的紫外线辐射 反应材料施加到所述工件的工作表面上的机构。

10.一种用于印刷具有电性能的图案的方法，包括以下步骤：

提供具有图案化的转移表面的压印模；

将紫外线辐射反应材料施加到所述图案化的转移表面上，其中， 所述紫外线辐射反应材料对波长小于400纳米的紫外线辐射起反应， 在受到所述紫外线辐射后能够改变其状态、化学结构、化学构型或消 融；

将印刷材料施加到所述图案化的转移表面上；

使用紫外线来激发所述的紫外线辐射反应材料，从而使所述紫 外线辐射反应材料发生反应，并且使所述印刷材料接触该反应的副产 物；及

将所述压印模施加到基板的工作表面上，以使所述印刷材料转 移到基板上。

11.权利要求10所述的方法，该方法还包括通过将所述压印 模浸入容纳有所述印刷材料的容器中来施加所述印刷材料。

12.权利要求10所述的方法，该方法还包括：

通过将所述压印模浸入容纳有所述紫外线辐射反应材料的容器 中，来施加所述紫外线辐射反应材料；及

通过将所述压印模浸入容纳有所述印刷材料的容器中，来施加 所述印刷材料。

13.权利要求10所述的方法，该方法还包括透过所述压印模的 透明部分来施加紫外线辐射。

14.权利要求10所述的方法，该方法包括使用压印模的步骤， 其中所述压印模包括：

图案化的转移表面，其能把印刷材料从所述压印模转移到所述 基板上，以在所述基板上建立印刷电路元件；及

紫外线辐射反应材料，其涂布在所述图案化的转移表面上。