[发明专利]亚微米孔隙结构二氧化钛薄膜及其制备方法无效
申请号: | 200910143688.8 | 申请日: | 2009-06-02 |
公开(公告)号: | CN101554583A | 公开(公告)日: | 2009-10-14 |
发明(设计)人: | 刘培生;夏凤金;覃礼钊;廖斌;刘安东 | 申请(专利权)人: | 北京师范大学 |
主分类号: | B01J21/06 | 分类号: | B01J21/06;B01J35/10;B01J20/06 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 100875*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 微米 孔隙 结构 氧化 薄膜 及其 制备 方法 | ||
【权利要求书】:
1.一种具有亚微米孔隙结构的二氧化钛薄膜,其特征在于:该二氧化钛薄膜为多层结构的多孔膜,具有大量的亚微米孔隙,这些亚微米孔隙在整个二氧化钛薄膜中构成相互连通,孔隙拓展出所得光催化膜的内部表面。
2.权利要求1所述的具有亚微米孔隙结构的二氧化钛薄膜的制备方法,其特征在于:采用成熟的溶胶-凝胶工艺,重复数次获得多层结构膜,再由常规的离子注入方式将具有一定动能的高速离子态粒子轰击所得二氧化钛膜层,通过这些高速粒子的轰击作用,在受击二氧化钛膜层上产生大量的亚微米孔隙。
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