[发明专利]一种光刻照明系统

权利要求书

1.一种光刻照明系统，其特征在于，所述的光刻照明系统依次包括：光源，扩束器，衍射光学模块，变焦透镜，旋转三棱镜，微透镜阵列模块和聚光镜，其中，所述光源产生的照明光束用于照亮一个照明场，所述的微透镜阵列模块包括：一个厚透镜阵列，其前后两个表面都具有二维微柱面结构，两对刀口阵列，以及一个远心调节微透镜阵列，所述厚透镜阵列的后表面具有像散功能，所述远心调节微透镜阵列具有二维微柱面结构。

2.如权利要求1所述的光刻照明系统，其特征在于：所述光源产生的照明光束的波长是248nm、193nm、157nm或126nm。

3.如权利要求1所述的光刻照明系统，其特征在于：所述的衍射光学模块具有多个可替换的衍射光学元件，所述的衍射光学元件用于产生特定照明模式。

4.如权利要求3所述的光刻照明系统，其特征在于：所述的特定照明模式是圆形、环形、双极或四极照明模式。

5.如权利要求1所述的光刻照明系统，其特征在于：所述变焦透镜的前焦面与所述衍射光学模块的位置重合。

6.如权利要求1所述的光刻照明系统，其特征在于：所述厚透镜阵列的前表面将入射光束分割成多个二次光源，并使入射光束在所述厚透镜阵列内部会聚。

7.如权利要求1所述的光刻照明系统，其特征在于：所述厚透镜阵列的前表面位于所述变焦透镜和旋转三棱镜的出瞳面上，且所述厚透镜阵列的前表面的后焦面与后表面的物面重合。

8.如权利要求1所述的光刻照明系统，其特征在于：所述厚透镜阵列的后表面具有像散功能，其在xz平面和yz平面的孔径光阑位置不重合。

9.如权利要求1所述的光刻照明系统，其特征在于：所述的两对刀口阵列分别位于所述厚透镜阵列的后表面在xz平面和yz平面的孔径光阑面上，所述远心调节微透镜阵列的前焦面与所述厚透镜阵列的后表面在xz平面或yz平面的孔径光阑面重合。

10.一种光刻照明系统，其特征在于，所述的光刻照明系统依次包括：光源，扩束器，衍射光学模块，变焦透镜，旋转三棱镜，微透镜阵列模块和聚光镜，其中，所述光源产生的照明光束用于照亮一个照明场，所述的微透镜阵列模块包括：第一微透镜阵列，第二微透镜阵列，两对刀口阵列，以及一个远心调节微透镜阵列，所述第二微透镜阵列具有像散功能，所述第一、第二微透镜阵列和远心调节微透镜阵列都具有二维微柱面结构。

11.如权利要求10所述的光刻照明系统，其特征在于：所述光源产生的照明光束的波长是248nm、193nm、157nm或126nm。

12.如权利要求10所述的光刻照明系统，其特征在于：所述的衍射光学模块具有多个可替换的衍射光学元件，所述的衍射光学元件用于产生特定照明模式。

13.如权利要求10所述的光刻照明系统，其特征在于：所述的特定照明模式是圆形、环形、双极或四极照明模式。

14.如权利要求10所述的光刻照明系统，其特征在于：所述变焦透镜的前焦面与所述衍射光学模块的位置重合。

15.如权利要求10所述的光刻照明系统，其特征在于：所述第一微透镜阵列位于所述变焦透镜和旋转三棱镜的出瞳面上，且所述第一微透镜阵列的后焦面与所述第二微透镜阵列的物面重合。

16.如权利要求10所述的光刻照明系统，其特征在于：所述第二微透镜阵列在xz平面和yz平面的孔径光阑位置不重合。

17.如权利要求10所述的光刻照明系统，其特征在于：所述的两对刀口阵列分别位于所述第二微透镜阵列xz平面和yz平面的孔径光阑面上，所述远心调节微透镜阵列的前焦面与所述第二微透镜阵列xz平面或yz平面的孔径光阑重合。