[发明专利]光刻设备和器件制造方法

权利要求书

1.一种光刻设备，包括：

照射系统，其构造成以照射模式调节辐射束，所述照射模式包括从照射极发射的且相对于光轴倾斜一个角度的离轴辐射束；

支撑结构，其构造成支撑图案形成装置，所述图案形成装置能够将图案在所述辐射束的横截面上赋予给所述辐射束以形成图案化的辐射束，并且还能够将所述离轴辐射束衍射成相对于所述光轴相对地且不对称地倾斜的零级衍射束和第一级衍射束；

投影系统，其具有光瞳平面，并且构造成将所述图案化的辐射束投影到衬底的目标部分上；

相位调节器，其构建并配置成调节穿过设置在所述光瞳平面上的所述相位调节器的所述光学元件的辐射束电场相位；和

控制器，其构造并配置成获取表示所述图案和表示所述照射模式的数据，以识别所述第一级衍射束穿过所述光瞳平面的区域、通过计算与所述零级衍射束的光学相位相关的所需的所述第一级衍射束的光学相位来最优化所述图案的图像的焦深、绘制位于所述光学元件的一部分上的所述区域的图、以及提供热到所述部分或从所述部分去除热以依照所需的光学相位来改变所述光学元件的所述部分的折射率。

2.如权利要求1所述的光刻设备，其中：

所述照射模式是四极照射模式，所述四极照射模式包括分别从第一和邻近的第二极发射的且相对于所述光轴倾斜所述角度的第一和第二束；

所述离轴辐射束是所述第二束；和

所述图案形成装置能够将所述第一束衍射成相对于所述光轴相对地且对称地倾斜的零级束和第一级束。

3.一种器件制造方法，包括将图案从图案形成装置转移到衬底上，所述方法包括步骤：

以具有照射模式的辐射束照射图案形成装置，所述照射模式包括从照射极发射且相对于光轴倾斜一个角度的离轴辐射束，所述图案形成装置将图案在所述辐射束的横截面上赋予所述辐射束以形成图案化的辐射束，并且将所述离轴辐射束衍射成相对于所述光轴相对地且不对称地倾斜的零级衍射束和第一级衍射束；

将所述图案化的辐射束通过光瞳平面投影到所述衬底的目标部分上；

调节穿过设置在所述光瞳平面上的光学元件的辐射束的电场的相位，所述调节包括步骤：

获取表示所述图案和表示所述照射模式的数据，

识别所述第一级衍射束穿过所述光瞳平面的区域，

通过计算与所述零级衍射束的光学相位相关的所述第一级衍射束的所需光学相位来最优化所述图案的图像的图像特征，

绘制位于所述光学元件的一部分上的所述区域的图，和

向所述部分施加热或从所述部分上去除热，以依照所需的光学相位改变所述光学元件的所述部分的折射率。

4.如权利要求3所述的方法，其中：

所述照射模式是四极照射模式，所述四极照射模式包括分别从第一和邻近的第二极发射且相对于所述光轴倾斜所述角度的第一和第二束；

所述离轴辐射束是所述第二束；和

所述图案形成装置将所述第一束衍射成相对于所述光轴相对地且对称地倾斜的零级束和第一级束。