[发明专利]光学记录介质及用于光学记录介质的记录方法和记录装置有效
申请号: | 200910146657.8 | 申请日: | 2003-12-12 |
公开(公告)号: | CN101587716A | 公开(公告)日: | 2009-11-25 |
发明(设计)人: | 久保秀之;竹岛秀治 | 申请(专利权)人: | 三菱化学媒体股份有限公司 |
主分类号: | G11B7/0045 | 分类号: | G11B7/0045;G11B7/007 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人: | 李 辉 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 光学 记录 介质 用于 方法 装置 | ||
1.一种用于具有多个记录层的光学记录介质的记录方法,其包括以下步骤:
最佳功率控制记录功率设置步骤,在所述多个记录层中的每一个上进行记录之前进行最佳功率控制,以针对所述多个记录层中的每一个设置最佳功率控制记录功率;以及
初始记录功率设置步骤,当在一个记录层上进行记录之后,在另一记录层上进行记录之前,根据针对所述一个记录层的实际记录功率相对于在所述最佳功率控制记录功率设置步骤为一个记录层设置的最佳功率控制记录功率的变化,来校正在所述最佳功率控制记录功率设置步骤中为另一记录层设置的最佳功率控制记录功率,以设置当开始在另一记录层上进行记录时要使用的记录功率。
2.如权利要求1所述的用于光学记录介质的记录方法,其中,连续地进行在所述一个记录层上的记录和在所述另一记录层上的记录。
3.如权利要求1所述的用于光学记录介质的记录方法,其中,当在所述光学记录介质上进行记录之前,在所述多个记录层中的每一个上预先进行所述最佳功率控制记录功率设置步骤。
4.一种用于具有多个记录层的光学记录介质的记录装置,其包括:
控制算术单元,用于当在所述多个记录层中的每一个上进行记录之前进行最佳功率控制以针对所述多个记录层中的每一个设置最佳功率控制记录功率,
其中,当在一个记录层上进行记录之后,在另一记录层上进行记录之前,所述控制算术单元根据针对一个记录层的实际记录功率相对于最佳功率控制记录功率的变化,来校正针对另一记录层的最佳功率控制记录功率,以设置当开始在另一记录层上进行记录时要使用的记录功率。
5.如权利要求4所述的用于光学记录介质的记录装置,其中,所述控制算术单元连续地进行在所述一个记录层上的记录和在所述另一记录层上的记录。
6.如权利要求4所述的用于光学记录介质的记录装置,其中,所述控制算术单元当在所述光学记录介质上进行记录之前针对所述多个记录层中的每一个预先设置最佳功率控制记录功率。
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