[发明专利]触控面板及其形成方法

权利要求书

1.一种形成触控面板的方法，其特征在于，包括：

提供一基板；

形成一光刻胶间隔物层于该基板上；

进行单一微影工艺于该光刻胶间隔物层上，定义一主要间隔物及一触控间 隔物；

形成一导电层于该主要间隔物及该触控间隔物上；以及

移除部份该导电层，露出该主要间隔物的顶部以及侧部的上半部。

2.根据权利要求1所述的形成触控面板的方法，其特征在于，该基板为一 彩色滤光片基板。

3.根据权利要求2所述的形成触控面板的方法，其特征在于，该基板包括 一黑色矩阵，且该主要间隔物及该触控间隔物形成于该黑色矩阵上。

4.根据权利要求1所述的形成触控面板的方法，其特征在于，还包括在形 成该光刻胶间隔物层于该基板上之前，形成一涂层于该基板上。

5.根据权利要求1所述的形成触控面板的方法，其特征在于，该光刻胶间 隔物层为正光刻胶，该单一微影工艺为应用一半透式光掩模，且该半透式光掩 模具有一透光区、一半透光区、及一不透光区，其中该光刻胶间隔物层对应该 不透光区的部份形成该主要间隔物，该光刻胶间隔物层对应该半透光区的部份 形成该触控间隔物，且该主要间隔物及该触控间隔物的高度不同。

6.根据权利要求1所述的形成触控面板的方法，其特征在于，该光刻胶间 隔物层为负光刻胶，该单一微影工艺为应用一半透式光掩模，且该半透式光掩 模具有一透光区、一半透光区、及一不透光区，其中该光刻胶间隔物层对应该 透光区的部份形成该主要间隔物，该光刻胶间隔物层对应该半透光区的部份形 成该触控间隔物，且该主要间隔物及该触控间隔物的高度不同。

7.根据权利要求1所述的形成触控面板的方法，其特征在于，还包括形成 一垫层于该主要间隔物与该基板之间。

8.根据权利要求7所述的形成触控面板的方法，其特征在于，该垫层包括 彩色滤光片、绝缘层、金属层、或上述的组合。

9.根据权利要求1所述的形成触控面板的方法，其特征在于，该主要间隔 物露出的侧部的部分上半部占侧部的10％至90％。

10.根据权利要求1所述的形成触控面板的方法，其特征在于，该主要间 隔物露出的侧部的部分上半部占侧部的60％至80％。

11.一种触控面板，其特征在于，包括：

一基板；

一主要间隔物及一触控间隔物位于该基板上；以及

一导电层，覆盖该触控间隔物；

其中该导电层仅覆盖该主要间隔物的侧部的下半部，并露出该主要间隔物 的顶部及侧部的上半部。

12.根据权利要求11所述的触控面板，其特征在于，该基板为一彩色滤光 片基板。

13.根据权利要求12所述的触控面板，其特征在于，该基板包括一黑色矩 阵，该黑色矩阵分隔多个彩色滤光片，且该主要间隔物及该触控间隔物形成于 该黑色矩阵上。

14.根据权利要求11所述的触控面板，还包括一涂层位于基板与该主要间 隔物及该触控间隔物之间。

15.根据权利要求11所述的触控面板，其特征在于，该主要间隔物及该触 控间隔物的高度不同。

16.根据权利要求11所述的触控面板，其特征在于，还包括一垫层位于该 主要间隔物与该基板之间。

17.根据权利要求16所述的触控面板，其特征在于，该垫层包括彩色滤光 片、绝缘层、金属层、或上述的组合。

18.根据权利要求11所述的触控面板，其特征在于，该主要间隔物露出的 侧部的部分上半部占侧部的10％至90％。

19.根据权利要求11所述的触控面板，其特征在于，该主要间隔物露出的 侧部的部分上半部占侧部的60％至80％。