[发明专利]曝光机的曝光方法

说明书

技术领域

本发明有关一种曝光机的曝光方法，旨在提供一种可对曝光平台的特定区域进行曝光作业，相对较不会产生聚热现象，以及可以降低设备体积及成本的曝光机，以及与其相关的曝光方法。

背景技术

按，一般印刷电路板或半导体晶片在进行曝光显影制程时，先在被加工物表面上涂上一层光阻，再藉由光源的照射将原稿上的电路布线图案映像至被加工物表面的光阻层上，以使光阻层的化学性质因光源的照射而产生变化，然后再利用去光阻剂将被光源照射过的光阻或未经曝光的光阻自被加工物表面去除，以形成对应于原稿的线路布局。

其中，用以执行曝光显影加工制程的曝光机基本结构如图1所示，主要具有一由机壳11构成的曝光室12，以及设有一可相对进出曝光室12的曝光平台13，而且至少在该曝光室12内部相对应于曝光平台13的上方或下方位置，设有一光源组14；请同时参照图2所示，该曝光平台13为一供放置被加工物20与原稿(图略)的透明平台，整体曝光平台13并藉由一组线性滑轨15进出曝光室12。

该曝光平台13连同被加工物及原稿进入曝光室12至定位之后，一般必须在曝光室12内部停留一段时间(约3～5秒不等)使被加工物接受光源组14的曝光光源照射，待完成曝光之后再由曝光平台13将被加工物送出。

由于，一般习用曝光机多采用曝光平台13停滞在曝光室12内部的方式进行曝光作业，因此多在其光源组14设有大量采用数组配置方式的灯泡141，藉以形成涵盖整个曝光平台13的平行光源；在大量灯泡141同时运作下，将使机壳11内部产生严重的聚热现象，需另外用水冷统散热，致使设备成本偏高。

另有一种习用曝光机透过复眼装置将灯泡的光线修正为所需的平行光及面积大小，其动作方式乃让光源灯泡透过椭圆镜将光线利用一组第一反射镜投向复眼装置使其光线均匀化，再利用一组第二反射镜将光线改变前进方向，最后利用一组凸透镜将光线修正为所需的平行光及面积大小，进而投射出所须的曝光光源，并藉以减少灯泡的数量。

如此的设计不但使整体曝光机的结构趋于复杂，且整体曝光机的体机亦相对更趋庞大；再者，其同样采用涵盖整个曝光平台的曝光光源对被加工物进行曝光显影；然而，在实际的曝光显影制程中，并非所有被加工物的曝光区域皆与曝光平台相当，亦即整个曝光平台的某些区域并不需要被曝光光源照射，因此过度浪费许多不必要的加工成本。

发明内容

有鉴于此，本发明的主要目的即在提供一种可对曝光平台的特定区域进行曝光作业，相对较不会产生聚热现象，以及可以降低设备体积及成本的曝光机，以及与其相关的曝光方法。

为达上揭目的，本发明的曝光机具有一曝光平台供承载被加工物及原稿，另于曝光平台上方处设有至少一光源组用以产生朝向曝光平台照射曝光光源，该光源组并可依照预设的路径位移。

于实施时，曝光平台的两个相对应侧分别设有一第一线性滑轨，另有至少一第二线性滑轨跨设于两个第一线性滑轨之间，该光源组即配设于该至少一第二线性滑轨上；以及，设有一第一驱动组件用以带动第二线性滑轨沿着第一线性滑轨位移，设有第二驱动组件用以带动光源组沿着所属第二线性滑轨位移。透过光源组沿着所属第二滑轨位移，以及第二线性滑轨沿着第一线性滑轨位移的方式，让曝光光源到达曝光平台的预定区域，而对曝光平台上的被加工物进行曝光显影。

具体而言，本发明具有下列功效：

1.用以产生曝光效果的光源可以为单点光源，而非涵盖整个曝光平台的大面积光源，故可大幅减少光源组的灯泡数量，相对缩减整体曝光机的体积，以及相对降低设备成本。

2.所使用的控制电路可在曝光光源到达预定行程时，再行调升光源组的功率，故可相对降低整体曝光机的聚热现象。

3.整体曝光机，可配合被加工物的规格变动，而适时调整光源组的行程设定，可大幅提升曝光机的适用性及实用性。

4.光源组仅通过曝光平台需要被曝光光源照射的区域，因此不会浪费不必要的加工成本。

附图说明

图1为一习用曝光机的结构剖视图；

图2为一习用曝光机的曝光平台外观立体图；

图3为本发明第一实施例的曝光机外观立体图；

图4为本发明第一实施例的曝光机侧面结构图；

图5为本发明第一实施例的曝光机动作示意图；

图6为本发明第二实施例的曝光机动作示意图；

图7为本发明第二实施例的曝光机结构示意图；

图8为本发明光源组的结构示意图；

图9为本发明第三实施例的曝光机外观立体图；

图10为本发明第四实施例的曝光机外观立体图；