[发明专利]光刻装置和器件制造方法

权利要求书

1.一种主动干燥站，用于主动地从浸没式光刻投影设备中的基底或在基底台上的传感器去除残留浸液，所述主动干燥站包括：

气体流动部件，所述气体流动部件用于在所述基底或所述传感器的表面上形成气流，

其中所述气体流动部件包括气体入口和气体出口，所述气体入口用于将气体提供到所述基底或所述传感器的所述表面上的两个位置处，所述气体出口位于所述气体入口之间，用于将气体从所述两个位置之间的一位置去除。

2.根据权利要求1所述的主动干燥站，其中，所述气流形成气刀。

3.根据权利要求1所述的主动干燥站，其中，所述气体入口定向成与所述基底表面成一角度而不垂直并朝向所述气体出口。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的主动干燥站，还包括浸液溶解供液部件，用于将其中溶解有浸液的液体提供到所述基底或所述传感器的所述表面。

5.一种主动干燥方法，包括步骤：

接收来自光刻投影设备的、其上具有残留浸液的基底或在基底台上的传感器；以及

通过以气体流动部件在基底或传感器的表面上形成气流来从所述基底或传感器的表面去除液体，

其中所述气体流动部件包括气体入口和气体出口，所述气体入口用于将气体提供到所述基底或传感器的所述表面上的两个位置处，所述气体出口位于所述气体入口之间，用于将气体从所述两个位置之间的一位置去除。

6.根据权利要求5所述的方法，其中，所述气流形成气刀。

7.根据权利要求5所述的方法，其中，由所述气体流动部件形成的气流设置成与所述基底表面成一角度而不垂直。

8.根据权利要求5至7中任一项所述的方法，还包括步骤：将其中溶解有浸液的溶解液体提供到所述基底或所述传感器的所述表面。