[发明专利]显影处理方法和显影处理装置

权利要求书

1.一种显影处理方法，其为使被水平保持的衬底旋转并向该衬底 表面供给显影液实施显影处理的显影处理方法，其特征在于：

在所述显影处理工序之前，具备预湿工序，在该预湿工序中，从 位于旋转的衬底表面的中心附近的第一喷嘴供给显影液，同时从位于 比第一喷嘴靠向衬底外周侧的位置的第二喷嘴供给第二液体，由随着 所述衬底的旋转而向衬底的外周侧流动的第二液体形成壁，利用该壁 使显影液在衬底的旋转方向扩展，

与所述显影液相比，所述第二液体的表面张力小、密度小或者粘 性低，

所述衬底的转速为250rpm～3000rpm。

2.如权利要求1所述的显影处理方法，其特征在于：

所述第二液体是纯水。

3.如权利要求1所述的显影处理方法，其特征在于：

在同时供给所述显影液和所述第二液体之前，具备使所述第二喷 嘴移动至衬底的中心部上方向衬底表面供给所述第二液体的工序。

4.一种显影处理方法，其为使被水平保持的衬底旋转并向该衬底 表面供给显影液实施显影处理的显影处理方法，其特征在于：

在所述显影处理工序之前，具备预湿工序，在该预湿工序中，从 位于旋转的衬底表面的中心附近的第一喷嘴供给显影液，同时从位于 比第一喷嘴靠向衬底外周侧的位置的第二喷嘴供给第二液体，并且， 使第一喷嘴和第二喷嘴沿着连接衬底的中心部和外周部的方向移动， 由随着所述衬底的旋转而向衬底的外周侧流动的第二液体形成壁，利 用该壁使显影液在衬底的旋转方向扩展，

与所述显影液相比，所述第二液体的表面张力小、密度小或者粘 性低，

所述衬底的转速为250rpm～3000rpm。

5.如权利要求4所述的显影处理方法，其特征在于：

所述第二液体是纯水。

6.如权利要求4所述的显影处理方法，其特征在于：

在同时供给所述显影液和所述第二液体之前，具备使所述第二喷 嘴移动至衬底的中心部上方向衬底表面供给所述第二液体的工序。

7.一种显影处理装置，其为用于使被水平保持的衬底旋转并向该 衬底表面供给显影液实施显影处理的显影处理装置，其特征在于，具 备：

将衬底保持水平的衬底保持单元；

使所述衬底在水平面内旋转的旋转机构；

在所述衬底利用所述旋转机构旋转的状态下，向衬底表面供给显 影液的第一喷嘴；

位于比所述第一喷嘴靠向衬底外周侧的位置，向衬底表面供给第 二液体的第二喷嘴；和

控制所述旋转机构、第一喷嘴和第二喷嘴的驱动的控制单元，其 中，

所述控制单元使得在向所述衬底供给显影液的显影处理之前进行 预湿处理，在该预湿处理中，驱动所述旋转机构，使所述衬底旋转， 从位于衬底表面的中心附近的所述第一喷嘴供给显影液，同时从位于 比第一喷嘴靠向衬底外周侧的位置的所述第二喷嘴供给第二液体，由 随着所述衬底的旋转而向衬底的外周侧流动的第二液体形成壁，利用 该壁使得显影液在衬底的旋转方向扩展，

与所述显影液相比，所述第二液体的表面张力小、密度小或者粘 性低，

所述衬底的转速为250rpm～3000rpm。

8.如权利要求7所述的显影处理装置，其特征在于：

所述第二液体是纯水。

9.如权利要求7所述的显影处理装置，其特征在于：

所述控制单元在使所述第一喷嘴和第二喷嘴移动、同时供给显影 液和第二液体之前，使所述第二喷嘴移动至衬底的中心部上方，向衬 底表面供给第二液体。