[发明专利]光刻装置和器件制造方法

权利要求书

1.一种光刻投影装置，包括：

配置成调节辐射光束的照射器；

配置成保持构图部件的支座，该构图部件配置成给辐射光束在其截面赋予图案，以便形成带图案的辐射光束；

配置成保持基底的基底台；

配置成把带图案的辐射光束投影到基底靶部上的投影系统；

配置成使用液体至少部分填充投影系统和基底之间的空间的液体供给系统，该液体供给系统包括配置成把液体至少部分限制在所述空间中的液体限制结构；

配置成去除液体和气体混合物的出口，所述液体和气体混合物通过液体限制结构和基底之间的间隙；以及

配置成通过所述出口排出混合物的排空系统，该排空系统包括两相兼容泵和布置在所述间隙和所述两相兼容泵之间的液体/气体均化器，所述液体/气体均化器布置成把均匀的液体和气体混合物提供给两相兼容泵。

2.如权利要求1所述的装置，其中液体/气体均化器包括储罐和多孔单元，该多孔单元配置成当混合物进入储罐时使混合物均匀。

3.一种器件制造方法，包括：

将液体提供到光刻装置的投影系统和基底之间的空间，该液体由液体限制结构至少部分地限定在空间；

利用两相兼容泵去除液体和气体混合物，所述液体和气体混合物通过液体限制结构和基底之间的间隙；

在混合物到达两相兼容泵之前使其均匀；以及

利用投影系统使带图案的辐射光束穿过液体投影到基底上。