[发明专利]处理装置

权利要求书

1.一种处理装置，其特征在于，包括：

设置在处理容器的内部，用于载置被处理体的载置台；

用于从所述载置台的上方侧供给对被处理体进行处理的处理气体的处理气体供给单元；

用于排出所述处理容器内的气氛的气体排出部；和

以包围所述载置台上的被处理体的方式设置的整流部件，在被处理体载置在所述载置台上时，所述整流部件位于所述被处理体与所述气体排出部之间，

所述整流部件的至少处理气氛侧的表面部由多孔体构成。

2.如权利要求1所述的处理装置，其特征在于：

所述整流部件由比所述多孔体强度大的支承部件支承。

3.如权利要求2所述的处理装置，其特征在于：

所述整流部件包括由多孔体构成的整流壁。

4.如权利要求3所述的处理装置，其特征在于：

所述支承部件与该整流壁卡合以承受所述整流壁的自重。

5.如权利要求3或4所述的处理装置，其特征在于：

所述整流壁在长度方向上被分割，相互邻接的分割部分之间由比多孔体强度大的连结部件连结，

所述连结部件与该整流壁卡合以承受所述整流壁的自重。

6.如权利要求5所述的处理装置，其特征在于：

所述连结部件跨越相互邻接的分割部分之间，嵌入该分割部分的内部。

7.如权利要求1或2所述的处理装置，其特征在于：

所述整流部件由比多孔体强度大的主体部分，和配置在所述主体部分的处理气氛侧的多孔体构成。

8.如权利要求7所述的处理装置，其特征在于：

所述多孔体构成为从所述主体部分装卸自如。

9.如权利要求1～4中任一项所述的处理装置，其特征在于：

所述多孔体由多孔陶瓷构成。

10.如权利要求2～4中任一项所述的处理装置，其特征在于：

所述支承部件由陶瓷构成。

11.如权利要求5所述的处理装置，其特征在于：

所述连结部件由陶瓷构成。

12.如权利要求7所述的处理装置，其特征在于：

所述主体部分由陶瓷构成。

13.如权利要求2～4中任一项所述的处理装置，其特征在于：

包括使所述支承部件通过升降轴升降的升降机构。