[发明专利]工艺模块设施

权利要求书

1.一种工艺模块设施，其特征在于包含：

一底座，邻近于两个或多个工艺反应室；

多条气体控制线路以及真空排气管路，设置于该底座内并 连接于该两个或多个工艺反应室中的至少一个；以及

具有一个或多个移动室以及两个或多个工艺反应室的系 统；

所述两个或多个工艺反应室，设于一框架中；

该系统配置为：

把一个或多个基板装载到所述一个或多个移动室的各个移 动室中，所述一个或多个移动室由设于所述两个或多个工艺反应 室邻近处的轨道所载送，其中每个移动室配置为维持一特定的气 体条件；

沿着所述轨道推动所述各个移动室；

将所述各个移动室接合至所述两个或多个工艺反应室中的 各个；和

将所述一个或多个基板的各个从所述各个移动室运送至所 述各个工艺反应室，其中：

所述移动室还配置为：

在基板承载台上承载所述各个基板；和

在回缩位置以及伸展位置之间移动的摆臂机构来启动 所述基板承载台；

一线性致动器用来移动基板承载台，该线性致动器包含一 滑轮和传送带系统。

2.如权利要求1所述的工艺模块设施，其中，所述系统配置 为加热所述各个移动室。

3.如权利要求1所述的工艺模块设施，其中，所述系统配置 为依据所需的工艺顺序冷却该各个基板。

4.如权利要求1所述的工艺模块设施，其中，所述系统配置 为具有气压缸夹钳，通过所述气压缸夹钳，真空凸缘装置配置于 工艺反应室或装卸室的一平坦密封表面上。

5.如权利要求1所述的工艺模块设施，其中，所述系统配置 为在把所述各个基板装载到所述各个移动室中之前，预热所述各 个基板。

6.如权利要求1所述的工艺模块设施，其中，所述各个移动 室配置为维持一气体条件，以使得所述各个移动室和所述各个工 艺反应室之间的气压差落在10～500mTorr的范围中。

7.如权利要求1所述的工艺模块设施，其中，以垂直配置将 所述一个或多个基板从所述各个移动室运送至所述各个工艺反 应室。