[发明专利]发光设备及其制造方法有效
申请号: | 200910152392.2 | 申请日: | 2002-09-28 |
公开(公告)号: | CN101626064A | 公开(公告)日: | 2010-01-13 |
发明(设计)人: | 濑尾哲史;中村康男 | 申请(专利权)人: | 株式会社半导体能源研究所 |
主分类号: | H01L51/50 | 分类号: | H01L51/50;H01L51/54;H01L27/32;H01L51/56;H01L21/84 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 臧霁晨;李家麟 |
地址: | 日本神奈*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 发光 设备 及其 制造 方法 | ||
1.发光设备,包括:
在具有绝缘膜的衬底之上的包括氮化钛的阳极;
覆盖所述阳极和相邻阳极之间的孔隙的绝缘层;
在所述阳极之上的阴极;以及
包括至少一种有机化合物并插入在所述阳极和所述阴极之间的层,
其中所述阳极具有光屏蔽能力和5.0ev或以上的功函数,以及
其中所述阴极包括透光导电膜。
2.发光设备,包括:
在具有绝缘膜的衬底之上的半导体层;
与所述半导体层相邻的栅极电极,栅极绝缘膜插在其间;
在所述半导体层和所述栅极电极之上的中间层绝缘膜;
在所述中间层绝缘膜之上的具有光屏蔽能力的阳极,所述阳极通过 所述中间层绝缘膜中的接触孔与所述半导体层相连;
在所述阳极之上并包括透光导电膜的阴极;以及
包括至少一种有机化合物并插入在所述阳极和所述阴极之间的层,
其中所述阳极包括具有5.0ev或以上的功函数的氮化钛。
3.发光设备,包括:
在具有绝缘膜的衬底之上的具有半导体层的薄膜晶体管;
在所述薄膜晶体管之上的中间层绝缘膜;以及
在所述中间层绝缘膜之上的发光元件,其中所述发光元件具有包括 氮化钛的阳极、阴极和包括至少一种有机化合物的层,
其中所述阳极连接到所述薄膜晶体管的所述半导体层,以及
其中所述阳极具有5.0ev或以上的功函数。
4.如权利要求3所述的设备,其中所述阴极包括透光导电膜。
5.如权利要求3所述的设备,其中所述阳极通过所述中间层绝缘膜 中的接触孔与所述薄膜晶体管的所述半导体层相连。
6.如权利要求1至3中任一权利要求所述的设备,其中所述阳极包括 电阻率为1x10-2Ωcm或者更小的材料。
7.如权利要求3所述的设备,其中所述阳极具有光屏蔽能力。
8.如权利要求1至3中任一权利要求所述的设备,其中所述发光设备 是从由数字静态照相机、笔记本个人电脑、移动电脑、具有记录介质 的便携式图像再现设备、护目镜型显示器、视频摄像机和蜂窝式电话 构成的组中选择的一种。
9.制造发光设备的方法,包括:
在具有绝缘膜的衬底之上形成包括氮化钛的阳极;
使所述阳极的表面经受UV臭氧处理;
在所述阳极之上形成包括至少一种有机化合物的层;以及
在所述包括至少一种有机化合物的层之上形成阴极,
其中所述阳极在UV臭氧处理之后具有5.0ev或以上的功函数。
10.制造发光设备的方法,包括:
在具有绝缘膜的衬底之上形成半导体膜;
形成与所述半导体膜相邻的栅极电极,栅极绝缘膜插在其间;
在所述半导体膜和所述栅极电极之上形成中间层绝缘膜;
在所述中间层绝缘膜之上形成包括氮化钛的阳极;
使所述阳极的表面经受UV臭氧处理;
在所述阳极之上形成包括至少一种有机化合物的层;以及
在所述包括至少一种有机化合物的层上形成阴极,
其中所述阳极在UV臭氧处理之后具有5.0ev或以上的功函数。
11.制造发光设备的方法,包括:
在具有绝缘膜的衬底之上形成包括氮化钛的阳极;
使所述阳极的表面经受UV臭氧处理;
在所述阳极之上形成包括至少一种有机化合物的层;以及
在所述包括至少一种有机化合物的层上形成阴极。
其中所述阳极具有光屏蔽能力,
其中所述阳极在UV臭氧处理之后具有5.0ev或以上的功函数,以及
其中所述阴极包括透光导电膜。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L51-00 使用有机材料作有源部分或使用有机材料与其他材料的组合作有源部分的固态器件;专门适用于制造或处理这些器件或其部件的工艺方法或设备
H01L51-05 .专门适用于整流、放大、振荡或切换且并具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的;具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的电容器或电阻器
H01L51-42 .专门适用于感应红外线辐射、光、较短波长的电磁辐射或微粒辐射;专门适用于将这些辐射能转换为电能,或者适用于通过这样的辐射进行电能的控制
H01L51-50 .专门适用于光发射的,如有机发光二极管
H01L51-52 ..器件的零部件
H01L51-54 .. 材料选择