[发明专利]发光设备及其制造方法有效

专利信息
申请号: 200910152392.2 申请日: 2002-09-28
公开(公告)号: CN101626064A 公开(公告)日: 2010-01-13
发明(设计)人: 濑尾哲史;中村康男 申请(专利权)人: 株式会社半导体能源研究所
主分类号: H01L51/50 分类号: H01L51/50;H01L51/54;H01L27/32;H01L51/56;H01L21/84
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 臧霁晨;李家麟
地址: 日本神奈*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 发光 设备 及其 制造 方法
【权利要求书】:

1.发光设备,包括:

在具有绝缘膜的衬底之上的包括氮化钛的阳极;

覆盖所述阳极和相邻阳极之间的孔隙的绝缘层;

在所述阳极之上的阴极;以及

包括至少一种有机化合物并插入在所述阳极和所述阴极之间的层,

其中所述阳极具有光屏蔽能力和5.0ev或以上的功函数,以及

其中所述阴极包括透光导电膜。

2.发光设备,包括:

在具有绝缘膜的衬底之上的半导体层;

与所述半导体层相邻的栅极电极,栅极绝缘膜插在其间;

在所述半导体层和所述栅极电极之上的中间层绝缘膜;

在所述中间层绝缘膜之上的具有光屏蔽能力的阳极,所述阳极通过 所述中间层绝缘膜中的接触孔与所述半导体层相连;

在所述阳极之上并包括透光导电膜的阴极;以及

包括至少一种有机化合物并插入在所述阳极和所述阴极之间的层,

其中所述阳极包括具有5.0ev或以上的功函数的氮化钛。

3.发光设备,包括:

在具有绝缘膜的衬底之上的具有半导体层的薄膜晶体管;

在所述薄膜晶体管之上的中间层绝缘膜;以及

在所述中间层绝缘膜之上的发光元件,其中所述发光元件具有包括 氮化钛的阳极、阴极和包括至少一种有机化合物的层,

其中所述阳极连接到所述薄膜晶体管的所述半导体层,以及

其中所述阳极具有5.0ev或以上的功函数。

4.如权利要求3所述的设备,其中所述阴极包括透光导电膜。

5.如权利要求3所述的设备,其中所述阳极通过所述中间层绝缘膜 中的接触孔与所述薄膜晶体管的所述半导体层相连。

6.如权利要求1至3中任一权利要求所述的设备,其中所述阳极包括 电阻率为1x10-2Ωcm或者更小的材料。

7.如权利要求3所述的设备,其中所述阳极具有光屏蔽能力。

8.如权利要求1至3中任一权利要求所述的设备,其中所述发光设备 是从由数字静态照相机、笔记本个人电脑、移动电脑、具有记录介质 的便携式图像再现设备、护目镜型显示器、视频摄像机和蜂窝式电话 构成的组中选择的一种。

9.制造发光设备的方法,包括:

在具有绝缘膜的衬底之上形成包括氮化钛的阳极;

使所述阳极的表面经受UV臭氧处理;

在所述阳极之上形成包括至少一种有机化合物的层;以及

在所述包括至少一种有机化合物的层之上形成阴极,

其中所述阳极在UV臭氧处理之后具有5.0ev或以上的功函数。

10.制造发光设备的方法,包括:

在具有绝缘膜的衬底之上形成半导体膜;

形成与所述半导体膜相邻的栅极电极,栅极绝缘膜插在其间;

在所述半导体膜和所述栅极电极之上形成中间层绝缘膜;

在所述中间层绝缘膜之上形成包括氮化钛的阳极;

使所述阳极的表面经受UV臭氧处理;

在所述阳极之上形成包括至少一种有机化合物的层;以及

在所述包括至少一种有机化合物的层上形成阴极,

其中所述阳极在UV臭氧处理之后具有5.0ev或以上的功函数。

11.制造发光设备的方法,包括:

在具有绝缘膜的衬底之上形成包括氮化钛的阳极;

使所述阳极的表面经受UV臭氧处理;

在所述阳极之上形成包括至少一种有机化合物的层;以及

在所述包括至少一种有机化合物的层上形成阴极。

其中所述阳极具有光屏蔽能力,

其中所述阳极在UV臭氧处理之后具有5.0ev或以上的功函数,以及

其中所述阴极包括透光导电膜。

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