[发明专利]一种激光上色标刻方法及设备

权利要求书

1.一种激光上色标刻方法，其特征在于：包括如下步骤：

1)将酒精和水以质量比为1∶1～1∶7进行稀释；

2)将颜料粉用稀释好的酒精来调和出流体态，颜料粉和稀释好的酒精的配比为100mg∶100ml～100mg∶350ml；

3)将调和好的颜料液体倒入喷枪内，然后用喷枪把颜料液体喷射到材料的表面形成涂层表面；或者将调和好的颜料液体丝印到材料的表面形成涂层表面；

4)将涂好颜料液体的材料放入到烘烤箱内，用65～160摄氏温度烘烤，烘烤时间为若干分钟；

5)把烘烤过后的材料放入到激光设备内，从而使激光束照射到涂层表面，进行标刻；

6)将标刻好的材料放入清水里，用毛刷清洗，风干或烘干。

2.根据权利要求1所述的一种激光上色标刻方法，其特征在于：所述的涂层表面的颜料来回不重贴地均匀地涂在材料的表面。

3.根据权利要求1所述的一种激光上色标刻方法，其特征在于：所述的烘烤时间根据材料的不同而不同：

陶瓷或搪瓷：7-15min，

玻璃：5-10min，

铝及合金：4-12min，

高光度金属：6-14min。

4.根据权利要求1所述的一种激光上色标刻方法，其特征在于：所述的激光束照射到涂层表面的重复定位精度为±0.01mm。

5.一种激光上色标刻设备，包括放置平台架、激光器、放置平台架下方设置有废料接收箱，放置平台架、激光器、废料接收箱都内置在机壳中，机壳通过支撑架安放在地面上，其特征在于：

X轴导轨安置在放置平台架上，传动皮带套置在X轴导轨上，X轴导轨的两端的Y轴方向上设置有Y轴导轨，从而X轴导轨能沿Y轴导轨前后地移动；

激光器，发射出的激光束经过多个全反镜，最后经过激光聚焦系统聚焦到涂层表面进行二维扫描标刻。

6.根据权利要求5所述的一种激光上色标刻设备，其特征在于：所述的二维扫描标刻采用的是五个全反镜，其中的45度全反镜一、45度全反镜二相互成90度设置在放置平台架上的一侧；45度全反镜三固定在放置平台架上的另一侧，45度全反镜四固定在X轴滑轨与Y轴导轨的交叉处的X轴导轨上，与45度全反镜三互成90度；45度全反镜五及激光聚焦系统可左右滑动的连接在X轴导轨上，X轴导轨前后的移动、五个全反镜及激光聚焦系统形成了二维扫描系统。

7.根据权利要求5所述的一种激光上色标刻设备，其特征在于：所述的激光器采用的是二氧化碳激光器，二氧化碳激光器的工作幅面采用的是幅面为900mm*1200mm的宽幅面，来标刻各种大小的平面陶瓷或搪瓷、玻璃、铝及合金，高光度的金属材料。

8.根据权利要求7所述的一种激光上色标刻设备，其特征在于：所述的二氧化碳激光器的平均功率为50--100W，中心波长为10.64nm。