[发明专利]电离器有效

专利信息
申请号: 200910159114.X 申请日: 2009-07-06
公开(公告)号: CN101626146A 公开(公告)日: 2010-01-13
发明(设计)人: 折原正幸;土志田孝之;唯野晃 申请(专利权)人: SMC株式会社
主分类号: H01T23/00 分类号: H01T23/00;H01T19/04
代理公司: 北京华夏正合知识产权代理事务所 代理人: 韩登营
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 电离
【说明书】:

技术领域

本发明涉及电离器,该电离器用于去除(中和)工件上所带有的正电荷或负电荷,更详细地说,涉及风扇型电离器,该风扇型电离器具有放电电极和风扇,其中放电电极产生正负离子,风扇产生运送该离子的气流。 

背景技术

在半导体晶片、液晶玻璃等各种工件的处理工序中,采用电离器来中和(去除)带静电的工件上所带的正负电荷,该电离器可利用电晕放电或软X射线等。利用电晕放电的电离器大致分为直流方式和交流方式,例如直流方式的电离器一般具有针状的正的放电电极和负的放电电极,通过向这些放电电极加载正负高电压来使电极的放电部产生电晕放电。利用空气将此时产生的正负离子吹向工件,由此来中和该工件上的正负电荷。 

这种电离器中往往采用将正的放电电极和负的放电电极相互邻近配置的方式,从而可通过加载较低的高电压来产生电晕放电。这种情况下,正离子的产生源和负离子的产生源相互邻近。 

专利文件1(日本发明专利公开公报2004-253192号)和专利文件2(日本发明专利公开公报2004-253193号)中公开了利用风扇来带动气流的风扇型电离器。该电离器中,在壳体上开口形成的送风口内设置所述风扇,正的放电电极和负的放电电极在该送风口的周向上大致成90°角配置,通过来自所述风扇的气流,将这些放电电极产生的正负离子吹向工件。 

然而,由于该文件中记载的电离器中的正负放电电极相互远离,所以为了产生电晕放电,就需要将加载在这些放电电极上的高电压设置得较高。

例如图10所示,该电压的问题可通过将正的放电电极20A和负的放电电极20B相互邻近配置来解决,但风扇型电离器中,通过风扇21的旋转所带动的气流会在该风扇21的旋转中心O发生扭转而以涡流方式行进,因此在所述正的放电电极20A和负的放电电极20B相互邻近的位置,尤其在与所述风扇21的旋转中心O的距离相等的情况下,如图10中对一部分放电电极20A和20B所标示的箭头所示,所产生的正负离子在被空气涡流运送时,其离子流22A和22B会互相重合,正负离子容易再结合而被中和。因此会产生到达工件的离子量减少,除电效率降低的问题。 

发明内容

因此,本发明的目的在于提供一种电离器,该电离器壳体的送风口内具有用于产生离子的放电电极和用于产生气流的风扇,通过对所述放电电极的配置进行设计,使正负离子流不发生重叠,从而可防止离子再结合,使送到工件处的离子量增多,以提高除电效率。 

为达到以上目的,本发明的电离器中,壳体上开口形成的送风口内设置有用于送风的风扇,且在伸入到该壳体的所述送风口内的位置上设置有多个放电电极,用于通过电晕放电来产生正负离子,该电离器具有多个放电电极对,该放电电极对由产生不同极性离子的两个放电电极组合而成,该放电电极对的两个放电电极的顶端-中心间距,即从电极顶端到所述送风口中心的距离不同。 

另外,在本发明中,所述电离器具有多个第1放电电极对和第2放电电极对,且该第1放电电极对和第2放电电极对的数目相同,所述第1放电电极对由顶端-中心间距较长的正的放电电极和顶端-中心间距较短的负的放电电极构成,所述第2放电电极对由顶端-中心间距较短的正的放电电极和顶端-中心间距较长的负的放电电极构成,该第1放电电极对和第2放电电极对绕所述送风口的中心交替配置。 

该情况下,第1放电电极对的正的放电电极和第2放电电极对的负的放电电极的顶端-中心间距相等,且第1放电电极对的负的放电电极和第2放电电极对的正的放电电极的顶端-中心间距相等。 

本发明优选具有如下结构:相邻的放电电极对的相邻的放电电极的顶端之间的距离比所述放电电极对的两个放电电极的顶端之间的距离大。 

另外,所述放电电极优选具有如下结构:除用于放电的顶端部以外,其它部分由电绝缘材料覆盖。 

本发明中,所述多个放电电极对在所述送风口的周向上等间隔配置,且各放电电极的两个放电电极在所述送风口的周向上相邻且接近的位置上,可配置为电极顶端朝向该送风口内侧的姿势。 

或者,所述多个放电电极对配置于所述送风口的壳体内部一侧,且各放电电极对的两个放电电极在与所述送风口的中心的距离不同的位置上,可配置为电极顶端朝向送风方向的姿势。 

【发明效果】 

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于SMC株式会社,未经SMC株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200910159114.X/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top