[发明专利]光刻设备及器件制造方法

权利要求书

1.一种浸没式光刻设备，包括：

衬底台，配置用于支撑衬底；

具有顶表面的遮蔽构件，其中，在使用中，所述顶表面大致与所述衬 底台的表面共平面，且所述遮蔽构件和衬底台的表面被间隙间隔开；

流体处理结构，配置以将液体供给和限制在投影系统和（i）所述衬底、 或（ii）所述衬底台、或（iii）所述遮蔽构件的表面、或（iv）从（i）-（iii） 中选择的任何组合之间；和

流体抽取系统，配置用于通过在所述遮蔽构件的侧壁表面和/或衬底台 的侧壁表面中的多个抽取开口从所述间隙移除液体；

其中，每个抽取开口是抽取通道的孔，并且每个抽取通道连接至收集 器通道，所述收集器通道与至少两个抽取通道相通。

2.根据权利要求1所述的光刻设备，其中，所述遮蔽构件是第二台。

3.根据权利要求2所述的光刻设备，其中，所述第二台是第二衬底台。

4.根据权利要求2所述的光刻设备，其中，所述第二台是测量台。

5.根据权利要求1所述的光刻设备，其中，所述遮蔽构件是在所述衬 底台和第二台之间的桥。

6.根据权利要求5所述的光刻设备，其中，所述桥是可回缩桥。

7.根据权利要求1所述的光刻设备，其中，围绕所述多个抽取开口的 间隙的侧壁表面是亲液的。

8.根据权利要求7所述的光刻设备，其中，所述间隙的远离所述多个 抽取开口的表面的至少一部分是疏液的。

9.根据权利要求8所述的光刻设备，其中，远离所述多个抽取开口的 基本上所有的间隙表面是疏液的。

10.根据权利要求1所述的光刻设备，其中，所述收集器通道与所有所 述抽取通道相通。

11.根据权利要求10所述的光刻设备，其中，所述收集器通道位于其 中形成有所述抽取开口的衬底台或遮蔽构件中。

12.根据权利要求10所述的光刻设备，其中，所述收集器通道的体积 基本上大于所述抽取通道的组合体积。

13.根据权利要求10所述的光刻设备，进一步包括控制器，所述控制 器配置用于控制从收集器通道流出的流量，以使得在抽取通道中的每一个 上的压降大于在抽取通道中存在的流体所产生的毛细压力。

14.根据权利要求13所述的光刻设备，其中，所述控制器被配置用于 控制从收集器通道中流出的流量，以使得在抽取通道中的每一个上的压降 至少大于收集器通道上的压降的5倍。

15.根据权利要求1-14中的任一项所述的光刻设备，其中，所述间隙 的上部边缘的半径小于0.5mm且大于0mm。

16.根据权利要求15所述的光刻设备，其中所述间隙的上部边缘的半 径在0.1mm和0.3mm之间。

17.根据权利要求1至14中的任一项所述的光刻设备，还包括控制器， 所述控制器配置用于控制物体在所述设备中的移动，以使得所述间隙在流 体处理结构下面仅沿第一方向移动。

18.根据权利要求1至14中的任一项所述的光刻设备，所述间隙开口 至抽取开口下面的气体源。

19.根据权利要求1至14中的任一项所述的光刻设备，还包括在间隙 中的凸台，所述凸台限定与衬底台的顶表面大致平行且在抽取开口下面的 表面。

20.根据权利要求19所述的光刻设备，其中，所述凸台从侧壁表面突 出在0.5mm和0mm之间的距离。

21.根据权利要求20所述的光刻设备，其中，所述凸台从侧壁表面突 出的距离在0.15mm和0.05mm之间。

22.根据权利要求19所述的光刻设备，其中，抽取开口的底部与所述 凸台共平面。