[发明专利]光盘记录介质和制造光盘的方法无效
申请号: | 200910159686.8 | 申请日: | 2009-07-31 |
公开(公告)号: | CN101640048A | 公开(公告)日: | 2010-02-03 |
发明(设计)人: | 大星敏夫;R·塔努普拉约吉;中野淳 | 申请(专利权)人: | 索尼株式会社 |
主分类号: | G11B7/24 | 分类号: | G11B7/24;G11B7/26 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人: | 秦 晨 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 光盘 记录 介质 制造 方法 | ||
1.一种光盘记录介质,包括:
盘基片;
至少一个记录层,设置在盘基片的一个表面侧上,所述至少一个记录层中的每一个记录层都包括两个电介质膜、记录膜和反射膜,所述两个电介质膜中的一个电介质膜设置在反射膜的激光入射表面侧上,所述两个电介质膜中的另一个电介质膜设置在记录膜的激光入射表面侧上,记录膜设置在所述一个电介质膜的激光入射表面侧上,由一次写入式相变材料构成,并且被设计为使得在进行读取时来自所述至少一个记录层的信号的量都相同;
覆盖层,设置在所述至少一个记录层的激光入射表面侧上并由透光树脂层构成;以及
硬涂层,设置在覆盖层的激光入射表面侧上,用于表面保护,并且由透光树脂层构成,
其中,覆盖层被形成为使得其厚度从盘的中央部分到周边部分减小,硬涂层被形成为使得其厚度从盘的中央部分到周边部分增加,并且,覆盖层和硬涂层的总厚度从盘的中央部分到周边部分是基本均匀的。
2.根据权利要求1所述的光盘记录介质,其中,当所述至少一个记录层为多个记录层时,在所述多个记录层之间形成有间隔层。
3.根据权利要求2所述的光盘记录介质,其中,覆盖层被形成为使得其厚度从盘的中央部分到周边部分以90%或更大的倾斜率减小,该倾斜率被定义为覆盖层的外周边部分的厚度相对于中央部分的厚度的百分比。
4.根据权利要求3所述的光盘记录介质,其中,硬涂层被形成为使得其厚度从盘的中央部分到周边部分以300%或更小的倾斜率增加,该倾斜率被定义为硬涂层的外周边部分的厚度相对于中央部分的厚度的百分比。
5.一种制造光盘的方法,包括下述步骤:
模制盘基片;
在盘基片的一个表面侧上形成至少一个记录层,所述至少一个记录层中的每一个记录层都包括两个电介质膜、记录膜和反射膜,所述两个电介质膜中的一个电介质膜设置在反射膜的激光入射表面侧上,所述两个电介质膜中的另一个电介质膜设置在记录膜的激光入射表面侧上,记录膜设置在所述一个电介质膜的激光入射表面侧上,由一次写入式相变材料构成,并且被设计为使得在进行读取时来自所述至少一个记录层的信号的量都相同;
在所述至少一个记录层的激光入射表面侧上形成由透光树脂层构成的覆盖层,使得该覆盖层的厚度从盘的中央部分到周边部分减小;以及
在覆盖层的激光入射表面侧上形成由透光树脂层构成的用于表面保护的硬涂层,使得该硬涂层的厚度从盘的中央部分向周边部分增加,并且覆盖层和硬涂层的总厚度从盘的中央部分到周边部分是基本均匀的。
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