[发明专利]光吸收构件、加热装置、定影装置及成像设备无效
申请号: | 200910159791.1 | 申请日: | 2009-07-22 |
公开(公告)号: | CN101644787A | 公开(公告)日: | 2010-02-10 |
发明(设计)人: | 金大焕;金朱镐;吴承真;崔善洛;金佑圭 | 申请(专利权)人: | 三星电子株式会社 |
主分类号: | G02B5/00 | 分类号: | G02B5/00;G03G15/20;G03G15/01 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人: | 张 波 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 光吸收 构件 加热 装置 定影 成像 设备 | ||
1.一种光吸收构件,包括:
形成在基板上方的一个或多个吸收涂覆层,所述一个或多个吸收涂覆层中的每个都具有分散在其中的多个纳米棒。
2.如权利要求1所述的光吸收构件,其中所述多个纳米棒中的每个均由选自Ag、Au、Pt、Pd、Fe、Ni、Al、Sb、W、Tb、Dy、Gd、Eu、Nd、Pr、Sr、Mg、Cu、Zn、Co、Mn、Cr、V、Mo、Zr和Ba组成的组中的至少一种金属形成。
3.一种加热装置,包括:
光源;以及
如权利要求1或2所述的光吸收构件,所述光吸收构件吸收从所述光源发射的光。
4.如权利要求3所述的加热装置,其中所述吸收涂覆层包括其中含有一些所述纳米棒的单层。
5.如权利要求3所述的加热装置,其中所述吸收涂覆层包括多层,每层中包括一些所述纳米棒。
6.如权利要求3到5中任一项所述的加热装置,其中从所述光源发出的光具有单一波长,并且其中每个所述纳米棒具有高宽比,在所述高宽比时所述吸收涂覆层对光的吸收率的峰值产生在从所述光源发出的光的所述单一波长处。
7.如权利要求3到5中任一项所述的加热装置,其中从所述光源发出的光具有多个波长,每个波长在一波长范围内,并且
其中所述纳米棒具有多个高宽比,每个高宽比分别对应于多个峰值波长的相应一个,在所述峰值波长处所述纳米棒对光的吸收率处于峰值,每个所述峰值波长在所述波长范围内。
8.一种定影装置,包括:
光源;
如权利要求3到5中任一项所述的加热装置,所述加热装置构造为吸收从所述光源发出的光并提供热以将调色剂图像热定影在记录介质上,所述加热装置包括吸收涂覆层,所述吸收涂覆层具有分散于其中的纳米棒;以及
压力装置,与所述加热装置挤压接触从而形成两者之间的定影辊隙。
9.如权利要求8所述的定影装置,所述加热装置包括加热带或具有圆柱形状的加热辊。
10.如权利要求8所述的定影装置,其中所述吸收涂覆层包括分散在可释放介质中的纳米棒。
11.如权利要求8所述的定影装置,还包括:
由可释放材料形成的可释放层,所述可释放层布置为覆盖所述吸收涂覆层。
12.如权利要求8所述的定影装置,其中所述光源设置在所述加热装置外面,所述吸收涂覆层设置在所述加热装置的外部上且在来自所述光源的光的直接光路中。
13.如权利要求8所述的定影装置,其中所述光源设置在所述加热装置里面,所述吸收涂覆层设置在所述加热装置的内部上且在来自所述光源的光的光路中。
14.如权利要求8所述的定影装置,还包括:
导热构件,围绕所述光源的至少一部分,所述吸收涂覆层设置在所述导热构件的面对所述光源的表面上。
15.一种成像设备,包括:
打印单元,构造为将调色剂图像转移到记录介质上;以及
如权利要求8所述的定影装置,所述定影装置构造为从所述打印单元接收其上已经转移有所述调色剂图像的所述记录介质并将所述调色剂图像定影在所述记录介质上。
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