[发明专利]曝光方法、曝光装置以及器件制造方法

权利要求书

1.一种曝光装置，经过液体将规定的图案的像投影在基板上从 而对基板进行曝光，其特征在于，具有：

投影光学系统，用于将上述图案的像投影到基板上，

液体供给机构，为了在上述投影光学系统和上述基板上的一部分 之间形成液浸区域，向上述投影光学系统和上述基板上的一部分之间 供给液体，

液体回收机构，回收上述投影光学系统和上述基板之间的液体， 以及

温度传感器，能够移动地设置在上述投影光学系统的像面附近， 用于计测在上述投影光学系统和上述基板上的一部分之间形成上述液 浸区域的液体的温度，

上述液体供给机构从多个位置分别供给温度不同的液体。

2.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，还具有支撑 上述温度传感器的可动部件。

3.根据权利要求2所述的曝光装置，其特征在于，上述温度传 感器相对于上述可动部件能够装卸。

4.根据权利要求2所述的曝光装置，其特征在于，上述可动部 件为支撑上述基板且能够移动的基板载物台。

5.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，上述液体供 给机构根据上述温度传感器的计测结果来调整供给到上述基板上的液 体的温度。

6.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，上述基板在 向规定方向移动的同时被曝光，上述温度传感器具有相互分离地设置 在垂直于上述规定方向的方向上的多个传感器元件。

7.一种曝光装置，经过液体将规定的图案的像投影在基板上从 而对基板进行曝光，上述基板在向规定方向移动的同时被曝光，其特 征在于，具有：

投影光学系统，将上述图案的像投影到基板上，

液体供给机构，为了在上述投影光学系统和上述基板上的一部分 之间形成液浸区域，向上述投影光学系统和上述基板之间供给液体，

液体回收机构，回收上述投影光学系统和上述基板上的一部分之 间的液体，

基板载物台，用于在曝光中移动上述基板，以及

温度传感器，具有多个为了计测在上述投影光学系统和上述基板 上的一部分之间形成上述液浸区域的液体的温度而相互分离地设置在 垂直于上述规定方向的方向上的传感器元件，

上述液体供给机构从多个位置分别供给温度不同的液体。

8.根据权利要求7所述的曝光装置，其特征在于，上述多个传 感器元件设置在上述投影光学系统的投影区域附近。

9.根据权利要求7所述的曝光装置，其特征在于，上述液体回 收机构在垂直于上述规定方向的方向上相互分离的多个位置处回收上 述基板上的液体，上述多个传感器元件分别计测在上述多个位置处回 收的液体的温度。

10.根据权利要求7所述的曝光装置，其特征在于，上述液体供 给机构根据上述温度传感器的计测结果来调整供给到上述基板上的液 体的温度。

11.根据权利要求1或7所述的曝光装置，其特征在于，还具有 调整单元，该调整单元根据使用上述温度传感器所计测到的液体的温 度信息来调整图案的像的投影状态，以便经过上述投影光学系统和上 述液体将所期望的图案的像投影到上述基板上。

12.根据权利要求11所述的曝光装置，其特征在于，上述调整 单元调整经过上述投影光学系统和上述液体形成的像面与上述基板表 面的位置关系。

13.根据权利要求11所述的曝光装置，其特征在于，上述调整 单元根据上述温度传感器的计测结果来调整由上述液体供给机构供给 的液体的温度。

14.根据权利要求1或7所述的曝光装置，其特征在于，上述液 体供给机构从在垂直于上述规定方向的方向上相互分离的多个位置处 分别供给温度不同的液体。