[发明专利]修正激光处理系统中的系统误差的方法有效
申请号: | 200910160580.X | 申请日: | 2006-02-15 |
公开(公告)号: | CN101698267A | 公开(公告)日: | 2010-04-28 |
发明(设计)人: | S·N·斯瓦林根;K·布鲁兰德;A·韦尔斯 | 申请(专利权)人: | 电子科学工业公司 |
主分类号: | B23K26/00 | 分类号: | B23K26/00;G06F19/00 |
代理公司: | 北京纪凯知识产权代理有限公司 11245 | 代理人: | 赵蓉民 |
地址: | 美国俄*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 修正 激光 处理 系统 中的 系统误差 方法 | ||
1.一种检测在校正过的材料处理系统所固定的工件下的粒子污染 的方法,其包含:
在多个位置执行工件的3D测量,以建构出该工件的3D图;
通过以下步骤形成校正图:
在多个位置执行工件的3D测量以构建所述工件的3D图;
通过比较该3D图上的所测基准点的位置与它们的已知位置, 来修正X及Y位置的误差;
对该3D图数据计算第一最佳拟合表面;
通过第一表面减法运算去除第一误差,所述第一表面减法运 算包括从该3D图数据中减去所述第一最佳拟合表面以形成第一剩余 值;
对由所述第一表面减法运算形成的所述第一剩余值计算第二 最佳拟合表面;
通过第二表面减法运算去除第二误差,所述第二表面减法运 算包括从所述第一剩余值中减去所述第二最佳拟合表面以形成第二剩 余值;
将由所述第二表面减法运算形成的所述第二剩余值分成多个 较小的相邻区域;
对所述多个区域中的每个区域计算局部最佳拟合表面,以形 成对应的局部表面;以及
将X及Y位置修正、所述第一最佳拟合表面、所述第二最佳拟 合表面和所述局部表面合并成校正图;
通过比较该校正图与该3D测量结果,以校正该3D图;以及
通过处理该校正的3D图以检测粒子污染。
2.如权利要求1所述的方法,其中该处理为阈值处理或平板弯折理 论其中之一。
3.如权利要求1所述的方法,其中该处理包含估计该粒子污染的大 小。
4.如权利要求1所述的方法,其中执行该3D测量获得第一组测量 结果,而所述检测粒子污染进一步包含:在所检测的粒子污染的附近 区域内执行该工件的3D测量,以提高靠近所检测的粒子污染处的样本 密度。
5.如权利要求1所述的方法,进一步包含:响应该粒子污染的检测 处理,决定停止处理该工件、继续处理该工件、处理该工件的局部、 或者清洁该工件以从其移除掉污染物。
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