[发明专利]光学薄膜的制造方法、光学薄膜、偏振板、光学补偿薄膜、防反射薄膜及液晶显示装置无效

专利信息
申请号: 200910161121.3 申请日: 2009-08-04
公开(公告)号: CN101704287A 公开(公告)日: 2010-05-12
发明(设计)人: 竹上龙太;则常雅彦;林直毅 申请(专利权)人: 富士胶片株式会社
主分类号: B29C43/22 分类号: B29C43/22;B29C43/58;B29C43/46;G02B5/30;G02F1/1335;G02F1/13363
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 朱丹
地址: 日本国*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 光学薄膜 制造 方法 偏振 光学 补偿 薄膜 反射 液晶 显示装置
【权利要求书】:

1.光学薄膜的制造方法,其特征在于,

包括使含有热塑性树脂的组合物的熔融物通过构成挟压装置的第一挟压面与第二挟压面之间并连续地挟压,从而成形为薄膜状的工序,

其中,所述挟压装置施加在所述熔融物的压力为20~500MPa,并且使所述第一挟压面的移动速度比所述第二挟压面的移动速度快。

2.如权利要求1所述的光学薄膜的制造方法,其特征在于,

还包括将含有所述热塑性树脂的组合物从模中熔融挤出的工序,并使已熔融挤出的熔融物通过所述第一挟压面与所述第二挟压面之间。

3.如权利要求1或2所述的光学薄膜的制造方法,其特征在于,

由下式(I)定义的所述挟压装置的第一挟压面与第二挟压面的移动速度比为0.60~0.99,

移动速度比=第二挟压面的速度/第一挟压面的速度  (I)。

4.如权利要求1或2所述的光学薄膜的制造方法,其特征在于,

将所述第一挟压面与所述第二挟压面的温度控制在Tg-70℃~Tg+10℃,其中,Tg表示所述热塑性树脂的玻璃化转移温度。

5.如权利要求1或2所述的光学薄膜的制造方法,其特征在于,

所述挟压装置包含圆周速度互不相同的2个辊,其中以圆周速度快的辊的表面作为第一挟压面,以圆周速度慢的辊的表面作为第二挟压面。

6.如权利要求5所述的光学薄膜的制造方法,其特征在于,

所述2个辊的肖氏硬度均为45HS以上。

7.如权利要求5所述的光学薄膜的制造方法,其特征在于,

所述2个辊均为金属辊。

8.如权利要求1或2所述的光学薄膜的制造方法,其特征在于,

所述热塑性树脂是选自环状烯烃系树脂、丙烯酸纤维素系树脂、聚碳酸酯系树脂、苯乙烯系树脂及丙烯酸系树脂中的至少一种。

9.一种光学薄膜,其特征在于,

由权利要求1~8中任一项所述的光学薄膜的制造方法来制造,且厚度为200μm以下。

10.一种光学薄膜,其特征在于,

所述光学薄膜为包含热塑性树脂的具有倾斜方位的光学薄膜,

其中,将在面内具有倾斜方位和厚度方向的所述薄膜的切片配置在2张配置成正交尼科耳的偏振板之间,并且一边从与所述偏振板的面相垂直的方向照射光,一边使2张配置成正交尼科耳的偏振板在0°~90°的范围内转动时,沿着厚度方向从薄膜切片的一端向另一端依次观测时,最初观测的消光位置和最后观测的消光位置相差超过3°。

11.如权利要求10所述的光学薄膜,其特征在于,

在所述薄膜切片的双折射实质上不为0的部分观测到所述消光位置的变化。

12.如权利要求10或11所述的光学薄膜,其特征在于,

沿着厚度方向从薄膜切片的一端向另一端依次观测时,双折射的大小成为最大的部分存在于薄膜内部。

13.如权利要求10或11所述的光学薄膜,其特征在于,

在具有薄膜倾斜方位和薄膜法线的面内,从该法线方向测定的波长为550nm下的迟滞Re[0°]、从相对于该法线向倾斜方位侧倾斜40°的方向测定的迟滞Re[+40°]和从相对于该法线向与倾斜方位相反的侧倾斜40°的方向测定的迟滞Re[-40°]同时满足下式(II)及(III),

20nm≤Re[0°]≤300nm  (II)

5nm≤|Re[+40°]-Re[-40°]|≤300nm  (III)。

14.如权利要求10或11所述的光学薄膜,其特征在于,

所述光学薄膜在膜厚方向的迟滞Rth满足下式(IV),

40nm≤Rth≤500nm  (IV)

Rth=((nx+ny)/2-nz)×d

式中,nx、ny、nz表示折射率椭圆体的各主轴方向的折射率,d表示膜厚。

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