[发明专利]同轴线低通滤波器及其幅频特性改善的方法有效
申请号: | 200910161789.8 | 申请日: | 2009-08-25 |
公开(公告)号: | CN101630765A | 公开(公告)日: | 2010-01-20 |
发明(设计)人: | 蔡丹涛 | 申请(专利权)人: | 华为技术有限公司 |
主分类号: | H01P1/202 | 分类号: | H01P1/202;H01P1/203 |
代理公司: | 深圳市深佳知识产权代理事务所(普通合伙) | 代理人: | 彭愿洁;李文红 |
地址: | 518129广东省*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 同轴线 滤波器 及其 特性 改善 方法 | ||
1.一种同轴线低通滤波器,其特征在于,该同轴线低通滤波器的至少 两低阻抗线段相互靠近至预定距离,包括:
耦合模块,设置在相互靠近至预定距离的所述两低阻抗线段之间,在所 述两低阻抗线段之间产生耦合电容,该耦合电容与所述两低阻抗线段之间的 高阻抗线段等效的电感构成谐振回路;
所述谐振回路的谐振频率高于该低通滤波器的低通截止频率。
2.如权利要求1所述的同轴线低通滤波器,其特征在于,
所述耦合模块为金属块,所述低通滤波器被折弯放置在一槽中,所述槽 中间位置设置有一隔筋,所述两低阻抗线段位于所述隔筋两侧;
所述耦合模块放置在所述隔筋的缺口中并固定。
3.如权利要求1所述的同轴线低通滤波器,其特征在于,
所述耦合模块为微带或带状金属线,所述低通滤波器被折弯放置在一方 形槽中并固定,所述槽中间位置设置有一隔筋,所述两低阻抗线段位于所述 隔筋两侧;
所述微带或带状金属线与所述两低阻抗线段连接。
4.如权利要求2或3中任一项所述的同轴线低通滤波器,其特征在于,
所述槽采用金属材料制成;
所述槽上方设置有金属盖,与所述槽形成密闭空间,所述构成谐振回路 的耦合模块、所述两低阻抗线段及所述两低阻抗线段之间的线段置于所述密 闭空间。
5.一种改善同轴线低通滤波器幅频特性的方法,其特征在于,包括:
在同轴线低通滤波器的两低阻抗线段产生耦合电容,该耦合电容与所述 两低阻抗线段之间的高阻抗线段等效的电感构成谐振回路;
调整所述耦合电容的值,使得所述谐振回路的谐振频率高于该低通滤波 器的低通截止频率。
6.如权利要求5所述的方法,其特征在于,所述在同轴线低通滤波器 的两低阻抗线段产生耦合电容,包括:
将所述同轴线低通滤波器折弯,使得所述两低阻抗线段靠近至预定距 离;
在所述两低阻抗线段之间设置耦合模块,所述耦合模块在所述两低阻抗 线段之间产生耦合电容。
7.如权利要求6所述的方法,其特征在于,所述将所述低通滤波器折 弯,使得两低阻抗线段靠近,包括:
将所述低通滤波器折弯放置在一槽中并固定,该槽中间位置设置有一隔 筋,所述两低阻抗线段位于所述隔筋两侧;
所述耦合模块为金属块,在所述两低阻抗线段之间设置耦合模块,包括:
在所述隔筋上开一缺口,该缺口用于放置所述金属块;
将所述金属块固定在所述隔筋上的缺口中。
8.如权利要求6所述的方法,其特征在于,所述耦合模块为微带或带 状金属线,所述在同轴线低通滤波器的两低阻抗线段产生耦合电容,包括:
将所述低通滤波器折弯,使得两低阻抗线段靠近至预定距离;
采用微带或带状金属线连接所述两低阻抗线段。
9.如权利要求8所述的方法,其特征在于,所述将所述低通滤波器折 弯,使得两低阻抗线段靠近至预定距离,包括:
将低通滤波器折弯放置在一槽中并固定,该槽中间位置设置有一隔筋, 所述两低阻抗线段位于所述隔筋两侧。
10.如权利要求7或9所述的方法,其特征在于,
所述槽采用金属材料制成;
在所述槽上方设置金属盖,与所述槽形成密闭空间,所述耦合模块、所 述两低阻抗线段及所述两低阻抗线段之间的线段置于所述密闭空间。
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