[发明专利]同轴线低通滤波器及其幅频特性改善的方法有效

专利信息
申请号: 200910161789.8 申请日: 2009-08-25
公开(公告)号: CN101630765A 公开(公告)日: 2010-01-20
发明(设计)人: 蔡丹涛 申请(专利权)人: 华为技术有限公司
主分类号: H01P1/202 分类号: H01P1/202;H01P1/203
代理公司: 深圳市深佳知识产权代理事务所(普通合伙) 代理人: 彭愿洁;李文红
地址: 518129广东省*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 同轴线 滤波器 及其 特性 改善 方法
【权利要求书】:

1.一种同轴线低通滤波器,其特征在于,该同轴线低通滤波器的至少 两低阻抗线段相互靠近至预定距离,包括:

耦合模块,设置在相互靠近至预定距离的所述两低阻抗线段之间,在所 述两低阻抗线段之间产生耦合电容,该耦合电容与所述两低阻抗线段之间的 高阻抗线段等效的电感构成谐振回路;

所述谐振回路的谐振频率高于该低通滤波器的低通截止频率。

2.如权利要求1所述的同轴线低通滤波器,其特征在于,

所述耦合模块为金属块,所述低通滤波器被折弯放置在一槽中,所述槽 中间位置设置有一隔筋,所述两低阻抗线段位于所述隔筋两侧;

所述耦合模块放置在所述隔筋的缺口中并固定。

3.如权利要求1所述的同轴线低通滤波器,其特征在于,

所述耦合模块为微带或带状金属线,所述低通滤波器被折弯放置在一方 形槽中并固定,所述槽中间位置设置有一隔筋,所述两低阻抗线段位于所述 隔筋两侧;

所述微带或带状金属线与所述两低阻抗线段连接。

4.如权利要求2或3中任一项所述的同轴线低通滤波器,其特征在于,

所述槽采用金属材料制成;

所述槽上方设置有金属盖,与所述槽形成密闭空间,所述构成谐振回路 的耦合模块、所述两低阻抗线段及所述两低阻抗线段之间的线段置于所述密 闭空间。

5.一种改善同轴线低通滤波器幅频特性的方法,其特征在于,包括:

在同轴线低通滤波器的两低阻抗线段产生耦合电容,该耦合电容与所述 两低阻抗线段之间的高阻抗线段等效的电感构成谐振回路;

调整所述耦合电容的值,使得所述谐振回路的谐振频率高于该低通滤波 器的低通截止频率。

6.如权利要求5所述的方法,其特征在于,所述在同轴线低通滤波器 的两低阻抗线段产生耦合电容,包括:

将所述同轴线低通滤波器折弯,使得所述两低阻抗线段靠近至预定距 离;

在所述两低阻抗线段之间设置耦合模块,所述耦合模块在所述两低阻抗 线段之间产生耦合电容。

7.如权利要求6所述的方法,其特征在于,所述将所述低通滤波器折 弯,使得两低阻抗线段靠近,包括:

将所述低通滤波器折弯放置在一槽中并固定,该槽中间位置设置有一隔 筋,所述两低阻抗线段位于所述隔筋两侧;

所述耦合模块为金属块,在所述两低阻抗线段之间设置耦合模块,包括:

在所述隔筋上开一缺口,该缺口用于放置所述金属块;

将所述金属块固定在所述隔筋上的缺口中。

8.如权利要求6所述的方法,其特征在于,所述耦合模块为微带或带 状金属线,所述在同轴线低通滤波器的两低阻抗线段产生耦合电容,包括:

将所述低通滤波器折弯,使得两低阻抗线段靠近至预定距离;

采用微带或带状金属线连接所述两低阻抗线段。

9.如权利要求8所述的方法,其特征在于,所述将所述低通滤波器折 弯,使得两低阻抗线段靠近至预定距离,包括:

将低通滤波器折弯放置在一槽中并固定,该槽中间位置设置有一隔筋, 所述两低阻抗线段位于所述隔筋两侧。

10.如权利要求7或9所述的方法,其特征在于,

所述槽采用金属材料制成;

在所述槽上方设置金属盖,与所述槽形成密闭空间,所述耦合模块、所 述两低阻抗线段及所述两低阻抗线段之间的线段置于所述密闭空间。

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