[发明专利]集成电容

权利要求书

1.一种集成电容，包含：

第一梳形金属结构；

第二梳形金属结构，与上述第一梳形金属结构交错；以及

曲形金属结构，设置于上述第一梳形金属结构与上述第二梳形金属结构之间的空间内。

2.如权利要求1所述的集成电容，其特征在于，介电层位于上述第一梳形金属结构，上述第二梳形金属结构，以及上述曲形金属结构之间。

3.如权利要求1所述的集成电容，其特征在于，上述第一梳形金属结构与上述第二梳形金属结构电耦接至第一极性，而上述曲形金属结构电耦接至与上述第一极性相反的第二极性。

4.如权利要求1所述的集成电容，其特征在于，上述第一梳形金属结构与上述第二梳形金属结构，以及上述曲形金属结构是同一金属互连层的金属线。

5.如权利要求1所述的集成电容，其特征在于，上述第一梳形金属结构、上述第二梳形金属结构以及上述曲形金属结构是由堆叠金属线与过孔形成的金属板。

6.一种集成电容，包含：

栅栏形的外金属结构，包围内金属结构以及介电层，上述介电层位于上述外金属结构与上述内金属结构之间。

7.如权利要求6所述的集成电容，其特征在于，栅栏形的上述外金属结构包含矩形金属框以及于上述矩形金属框内突出的多个指形电极，其中上述内金属结构具有轨道形结构，其包含垂直金属线及多个水平金属线。

8.如权利要求7所述的集成电容，其特征在于，上述垂直金属线与上述多个水平金属线互连。

9.如权利要求7所述的集成电容，其特征在于，上述多个水平金属线与栅栏形的上述外金属结构的上述多个指形电极相互交错。

10.如权利要求6所述的集成电容，其特征在于，上述外金属结构与上述内金属结构耦接至相反极性。

11.如权利要求6所述的集成电容，其特征在于，上述外金属结构与上述内金属结构是同一金属互连层的金属线。

12.如权利要求6所述的集成电容，其特征在于，上述外金属结构与上述内金属结构是由堆叠金属线与过孔形成的金属板。

13.一种集成电容，包含：

第一对钥匙形金属结构与第二对钥匙形金属结构，其中上述第一对钥匙形金属结构与上述第二对钥匙形金属结构相互啮合；以及

介电层，位于上述第一对钥匙形金属结构与上述第二对钥匙形金属结构之间。

14.如权利要求13所述的集成电容，其特征在于，上述第一对钥匙形金属结构耦接至第一极性，而上述第二对钥匙形金属结构耦接至与上述第一极性相反的第二极性。