[发明专利]改进照明系统、曝光装置和形成线/间隔电路图形的方法

权利要求书

1.一种组合偏振改进照明系统，用于利用来自光源的光照射光掩 模，其中照明系统包括：相对于光基本不透明的遮蔽区和多个限定在 遮蔽区的领域内的多个光传输区，所述光传输区相对于光基本透明并 且包括分别在不同方向上偏振入射于其上的光的偏振器，

其中光传输区包括在遮蔽区领域内的第一环形开口和在第一方向 上相互间隔开的遮蔽区的领域内的一对开口，偏振器分别占据环形开 口和该对开口，

其中在遮蔽区的领域内的所述对开口中的每一个与环形开口重 叠，且该重叠区域传输没有被偏振的入射光。

2.如权利要求1所述的组合偏振改进照明系统，其中偏振器在彼 此垂直的方向上偏振入射到传输区上的光。

3.如权利要求1的组合偏振改进照明系统，其中占据所述对开口 的偏振器在第一方向上偏振入射于其上的光，而占据环形开口的偏振 器在与第一方向垂直的第二方向上偏振入射于其上的光。

4.一种曝光装置，包括：

光源，发射给定波长的光；

光掩模，设置在曝光装置中以便于由光源发出的光入射于其上， 该光掩模包括相对于由光源发射的光透明的衬底、含有在第一方向上 相互平行延伸以便于在其间限定间隔的第一组线的第一线/间隔图形、 含有在第二方向上相互平行延伸以便于在其间限定间隔的第二组线的 第二线/间隔图形，第一和第二线/间隔图形的线相对于光源发射的光基 本不透明；以及

设置在曝光装置中的光源与光掩模之间的改进照明系统，以利用 光源发射的光来照射光掩模的区域，该改进照明系统包括分别在所述 第一和第二方向上偏振入射于其上的光的第一和第二偏振器，

其中该改进照明系统包括具有相对于光基本不透明的遮蔽区和限 定在遮蔽区的领域内的多个光传输区的组合偏振改进照明系统，所述 光传输区相对于光基本透明且含有分别在所述第一和第二方向上偏振 入射于其上的光的第一和第二偏振器，

其中光传输区重叠，且光传输区重叠的区域传输没有被偏振的入 射光，

其中一个光传输区具有偶极子形状，而另一个光传输区具有环形 形状。

5.如权利要求4的曝光装置，其中光掩模还包括占据在第一线/ 间隔图形的线之间限定的间隔的第一格状图形和占据在第二线/间隔图 形的线之间限定的间隔的第二格状图形，第一格状图形由相对于光基 本不透明且垂直于在其中第一线/间隔图形的线延伸的方向延伸的一组 第一条带构成，第一条带的间距小于光波长，而第二格状图形由相对 于光基本不透明且垂直于在其中第二线/间隔图形的线延伸的方向延伸 的一组第二条带构成，第二条带的间距小于光波长。

6.如权利要求4的曝光装置，其中第一和第二方向彼此垂直。

7.一种形成线/间隔电路图形的方法，所述方法包括：

提供在其上具有光致抗蚀剂层的衬底；

通过改进照明系统产生具有给定波长的光；

将光通过光掩模射向光致抗蚀剂层，该光掩模包括相对于光透明 的衬底、含有在第一方向上相互平行延伸以便于在其间限定间隔的第 一组线的第一线/间隔图形、含有在第二方向上相互平行延伸以便于在 其间限定间隔的第二组线的第二线/间隔图形，第一和第二方向不平行 且第一和第二线/间隔图形的线相对于光源发射的光基本不透明，由此 通过光获取光掩模的线/间隔图形的图像并将其转录到光致抗蚀剂层 上；

在从光掩模中透射出光之前在第一和第二方向上偏振光；

显影被曝光的光致抗蚀剂层，由此形成光致抗蚀剂图形；以及

利用光致抗蚀剂图形作为掩模蚀刻衬底，

其中该改进照明系统包括具有相对于光基本不透明的遮蔽区和限 定在遮蔽区的领域内的多个光传输区的组合偏振改进照明系统，所述 光传输区相对于光基本透明且含有分别在所述第一和第二方向上偏振 入射于其上的光的第一和第二偏振器，

其中光传输区重叠，且光传输区重叠的区域传输没有被偏振的入 射光，

其中一个光传输区具有偶极子形状，而另一个光传输区具有环形 形状。