[发明专利]用磁控溅射法生产CdS/CdTe太阳能电池的方法有效
申请号: | 200910164226.4 | 申请日: | 2009-08-21 |
公开(公告)号: | CN101640234A | 公开(公告)日: | 2010-02-03 |
发明(设计)人: | 侯仁义 | 申请(专利权)人: | 四川阿波罗太阳能科技有限责任公司 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18;C23C14/35 |
代理公司: | 成都科海专利事务有限责任公司 | 代理人: | 邓继轩 |
地址: | 610207四川省成都市双*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 磁控溅射 生产 cds cdte 太阳能电池 方法 | ||
1.一种用磁控溅射法生产CdS/CdTe太阳能电池的方法,其特征在于该方法包括以下步骤:
(1)CdS/CdTe膜的形成,
将清洁并光刻完成的导电玻璃工件装入夹具中,启动输送系统将工件送入进料仓(1),关闭仓门,启动真空系统,抽至2.5~5.5×10-2Pa,启动红外加热器使工件温度达230℃~250℃,充入氩气至0.5~2.2×100Pa,打开进料仓与CdS镀膜仓(2)之间的门,由输送系统使工件送入CdS仓,关闭进料仓与CdS镀膜仓之间的门,磁控溅射镀CdS,用直流电源将电流调至4~10mA/cm2,靶与工件的距离控制在100~220mm,时间7~10min,使CdS膜厚在70~120nm,停止溅射,打开CdS与过渡仓的门,启动输送系统使工件送入过渡仓(3)充入氩气,调整气压至1~5×100Pa,打开过渡仓与CdTe镀膜仓之间的门,启动输送系统使工件进入CdTe镀膜仓(4),关闭过渡仓与CdTe镀膜仓之间的门,磁控溅射镀CdTe,充入氩气至1~5×100Pa,用直流电源将电流调至7~23mA/cm2,靶与工件的距离控制在100~220mm,时间7~10min,使CdTe膜厚为1.5~3.5μm,打开出料仓(5),启动输送系统使工件进入出料仓,关闭出料仓与CdTe镀膜仓之间的门,打开放气阀放气,启动输送系统使工件出仓;
(2)CdCl2热处理,
将上述工件用CdCl2热处理,当工件加热至250~270℃,将CdCl2加热至390~420℃,采用近空间升华法将CdCl2镀在已经镀上CdS/CdTe的工件上,时间5~10s,形成200~500μm厚的CdCl2膜,然后在温度350~420℃的空气环境中热处理25~35min;
(3)背电极的制作,
将上述热处理后的工件装入夹具中,启动输送系统,使工件进入进料仓,关闭仓门,启动真空系统,抽至2.5~10×10-2Pa,充入氩气气压至1~4.0×100Pa,打开进料仓与ZnTe镀膜仓之间的门,由输送系统使工件送入ZnTe镀膜仓,磁控溅射镀ZnTe,使用高频电源4~6w/cm2,靶与工件的距离控制在70~220mm,时间2~5min,膜厚7~15μm,停止溅射,打开电源继续磁控溅射ZnTe:Cu,使电流7~15mA/cm2,靶与工件的距离控制在100~220mm,时间2~5min,膜厚10~40μm,用激光刻第二条线,距第一条线50~150μm的距离,激光刻线宽30~50μm的平行线,同理,打开Ni电源磁控溅射Ni,使用电流 0.3~2A/cm2,靶与工件的距离控制在100~220mm,时间3~5min,膜厚300~600nm;
用超声焊机焊上引出电极;
用激光刻第三条线,距第二条线50~150μm的距离,用激光刻线宽30~50μm的平行线;用UV胶在电池背面涂覆200~500μm厚的胶膜,经UV干燥机干燥后形成完整电池。
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