[发明专利]金属植入物及其表面处理的方法

权利要求书

1.一种金属植入物，其特征在于，其表面具有多个微米级孔洞与多个纳米级孔洞，所述微米级孔洞与所述纳米级孔洞通过一阴极处理与一阳极处理反应产生。

2.根据权利要求1所述的金属植入物，其特征在于，该金属植入物的材质为一钛金属或一钛合金或一含钛元素的金属。

3.根据权利要求1所述的金属植入物，其特征在于，所述微米级孔洞的孔径介于0.1um～200um之间，所述纳米级孔洞的孔径介于20nm～100nm之间。

4.根据权利要求1所述的金属植入物，其特征在于，该阴极处理为将该金属植入物置于阴极处，并将一电极置于阳极处，且提供一电流于该电极。

5.根据权利要求1所述的金属植入物，其特征在于，该阳极处理为将该金属植入物置于阳极处，并将一电极置于阴极处，且提供一电流于该金属植入物。

6.一种金属植入物的表面处理方法，其特征在于，包括：

提供一金属植入物以及一槽体，该槽体内置有一电极且含有一电解液；

将该金属植入物置于阴极处，并将该电极置于阳极处，当该电解液于一第一预设温度时，提供一第一电流于该电极；

停止施加该第一电流后，将该金属植入物置于阳极处，并将该电极置于阴极处，当该电解液于一第二预设温度时，提供一第二电流于该金属植入物，借此形成多个微米级孔洞与多个纳米级孔洞；以及

停止施加该第二电流。

7.根据权利要求6所述的表面处理方法，其特征在于，该金属植入物的材质为一钛金属或一钛合金或一含钛元素的金属。

8.根据权利要求6所述的表面处理方法，其特征在于，该电极为一钛电极或一白金电极或为一石墨电极。

9.根据权利要求6所述的表面处理方法，其特征在于，该第二电流的施加方式为一电流阶梯式上升的方式。

10.根据权利要求6所述的表面处理方法，其特征在于，该第一电流的电流密度为10^-1～1ASD。

11.根据权利要求6所述的表面处理方法，其特征在于，该第二电流的电流密度为10^-2～4ASD。

12.根据权利要求6所述的表面处理方法，其特征在于，该第一电流的通电时间为1分钟至240分钟之间。

13.根据权利要求6所述的表面处理方法，其特征在于，该第二电流的通电时间为5分钟至30分钟之间。

14.根据权利要求6所述的表面处理方法，其特征在于，该第一预设温度为10至50℃之间。

15.根据权利要求6所述的表面处理方法，其特征在于，该第一预设温度为25至35℃之间。

16.根据权利要求6所述的表面处理方法，其特征在于，该第二预设温度为0至100℃之间。

17.根据权利要求6所述的表面处理方法，其特征在于，该第二预设温度为10至15℃之间。

18.根据权利要求6所述的表面处理方法，其特征在于，所述微米级孔洞的孔径介于0.1um～200um之间，所述纳米级孔洞的孔径介于20nm～100nm之间。

19.根据权利要求6所述的表面处理方法，其特征在于，该金属植入物于进行该阴极处理之前，先进行一清洗润湿步骤。

20.根据权利要求19所述的表面处理方法，其特征在于，该清洗润湿步骤为将该金属植入物置于去离子水中以超声波震荡5分钟；取出该金属植入物置于丙酮中利用超声波震荡5分钟，并再以去离子水清洗并湿润；以及置该金属植入物于酒精中利用超声波震荡5分钟。