[发明专利]二酰亚胺类化合物及包含该化合物的化学增幅抗蚀剂组合物

权利要求书

1.一种由结构式(I)表示的二酰亚胺类化合物：

其中，R¹代表C1-C20脂肪烃基、C5-C10芳基或C6-C20芳烷基，并且所述C1-C20脂肪烃基、所述C5-C10芳基和所述C6-C20芳烷基可以具有一个以上取代基和一个以上杂原子；

W¹代表-CO-O-、-O-CO-、-CH₂O-、-O-CH₂-、-CH₂O-CO-或-CO-OCH₂-；

Q¹和Q²各自独立地代表氢原子、氟原子、C1-C6烷基或C1-C6全氟代烷基；并且

A代表由结构式(I-1)表示的基团：

其中，A¹代表-CH₂-CH₂-、-CH₂-CH₂-CH₂-、-CH＝CH-或-CH＝CH-CH₂-，其中一个以上氢原子可以用C1-C6脂肪烃基、C3-C12脂环烃基或C6-C10芳烃基取代，并且相邻取代基可以彼此成键从而形成环，并且所述C1-C6脂肪烃基、所述C3-C12脂环烃基和所述C6-C10芳烃基可以具有一个以上取代基和一个以上杂原子。

2.如权利要求1所述的二酰亚胺类化合物，其特征在于，Q¹和Q²各自独立地代表氟原子或三氟代甲基。

3.如权利要求1所述的二酰亚胺类化合物，其特征在于，Q¹和Q²是氟原子。

4.如权利要求1所述的二酰亚胺类化合物，其特征在于，R¹是用丙烯酰基氧基或甲基丙烯酰基氧基取代的C1-C20烃基，并且所述C1-C20烃基可以具有一个以上取代基和一个以上杂原子。

5.如权利要求1所述的二酰亚胺类化合物，其特征在于，R¹是可以具有一个以上取代基和一个以上杂原子的C3-C20脂环烃基。

6.如权利要求1所述的二酰亚胺类化合物，其特征在于，所述由结构式(I)表示的化合物是由结构式(III)、(IV)、(V)、(VI)或(VII)表示的化合物：

其中，U¹至U⁶各自独立地代表氢原子、C1-C4烃基或C1-C4烃氧基，并且R¹、W¹、Q¹和Q²的意义与如上限定的意义相同。

7.一种聚合物，其包含由如权利要求4所述的二酰亚胺类化合物衍生的结构单元。

8.如权利要求7所述的聚合物，其特征在于，除了所述由如权利要求4所述的二酰亚胺类化合物衍生的结构单元之外，所述聚合物还包含具有酸不稳定性基团的结构单元。

9.一种化学增幅抗蚀剂组合物，其包含树脂和如权利要求1所述的二酰亚胺类化合物。

10.一种化学增幅抗蚀剂组合物，其包含树脂和如权利要求7所述的聚合物。

11.如权利要求9或10所述的化学增幅抗蚀剂组合物，其特征在于，所述树脂是这样一种树脂：其包含具有酸不稳定性基团的结构单元，并且不溶于或微溶于碱性水溶液，但是在酸的作用下变得可溶于碱性水溶液。

12.如权利要求9或10所述的化学增幅抗蚀剂组合物，其特征在于，所述树脂进一步含有其他的产酸剂。

13.一种用于生产由结构式(I)表示的二酰亚胺类化合物的方法：

其中，R¹代表C1-C20脂肪烃基、C5-C10芳基或C6-C20芳烷基，并且所述C1-C20脂肪烃基、所述C5-C10芳基和所述C6-C20芳烷基可以具有一个以上取代基和一个以上杂原子；

W¹代表-CO-O-、-O-CO-、-CH₂O-、-O-CH₂-、-CH₂O-CO-或-CO-OCH₂-；

Q¹和Q²各自独立地代表氢原子、氟原子、C1-C6烷基或C1-C6全氟代烷基；并且

A代表由结构式(I-1)表示的基团：

其中，A¹代表-CH₂-CH₂-、-CH₂-CH₂-CH₂-、-CH＝CH-或-CH＝CH-CH₂-，其中一个以上氢原子可以用C1-C6脂肪烃基、C3-C12脂环烃基或C6-C10芳烃基取代，并且相邻取代基可以彼此成键从而形成环，并且所述C1-C6脂肪烃基、所述C3-C12脂环烃基和所述C6-C10芳烃基可以具有一个以上取代基和一个以上杂原子，

所述方法包括：在碱存在的条件下，使由结构式(VIII)表示的化合物与由结构式(IX)表示的化合物进行反应，

A-H    (VTII)

其中，结构式(VIII)中，A的意义与如上限定的意义相同；结构式(IX)中，R¹、W¹、Q¹和Q²的意义与如上限定的意义相同，并且L代表卤素原子。