[发明专利]光掩膜版及光掩膜

权利要求书

1、一种光掩膜版，其特征在于，

在透明基材上依次具有含有遮光材料、增感色素、光聚合引发剂、乙烯性不饱和化合物及粘合剂聚合物的感光层和25℃下的透氧性为50ml/m²·day·atm以上500ml/m²·day·atm以下的阻氧层。

2、根据权利要求1所述的光掩膜版，其特征在于，

所述阻氧层的膜厚为0.05μm以上1.5μm以下。

3、根据权利要求1或2所述的光掩膜版，其特征在于，

所述阻氧层为含有水溶性高分子化合物的层。

4、根据权利要求3所述的光掩膜版，其特征在于，

所述水溶性高分子化合物为聚乙烯醇。

5、根据权利要求4所述的光掩膜版，其特征在于，

所述聚乙烯醇的皂化度为30mol％以上85mol％以下。

6、根据权利要求4所述的光掩膜版，其特征在于，

所述聚乙烯醇为酸改性聚乙烯醇。

7、根据权利要求3所述的光掩膜版，其特征在于，

所述水溶性高分子化合物为聚乙烯基吡咯烷酮。

8、根据权利要求3所述的光掩膜版，其特征在于，

所述水溶性高分子化合物为聚亚烷基二醇。

9、根据权利要求8所述的光掩膜版，其特征在于，

所述聚亚烷基二醇为聚乙二醇。

10、根据权利要求8所述的光掩膜版，其特征在于，

所述聚亚烷基二醇具有乙二醇及丙二醇作为构成单元。

11、根据权利要求3所述的光掩膜版，其特征在于，

所述水溶性高分子化合物为丙烯酸系树脂。

12、根据权利要求11所述的光掩膜版，其特征在于，

所述丙烯酸系树脂为选自聚丙烯酸及其衍生物中的至少1种树脂。

13、根据权利要求12所述的光掩膜版，其特征在于，

所述聚丙烯酸衍生物具有丙烯酸的金属盐作为构成单元。

14、一种光掩膜，其特征在于，

所述光掩膜是通过以下方法制作的，所述方法中使用放射390nm以上450nm以下的光的激光器，对权利要求1所述的光掩膜版以图像样式进行曝光后显影。