[发明专利]光刻投影装置有效
申请号: | 200910167452.8 | 申请日: | 2004-06-25 |
公开(公告)号: | CN101639632A | 公开(公告)日: | 2010-02-03 |
发明(设计)人: | P·R·巴特雷;W·J·博克斯;D·J·P·A·弗兰肯;B·A·J·卢蒂克惠斯;E·A·F·范德帕施;M·W·M·范德维斯特;M·J·M·恩格尔斯 | 申请(专利权)人: | ASML荷兰有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人: | 王新华 |
地址: | 荷兰维*** | 国省代码: | 荷兰;NL |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 光刻 投影 装置 | ||
1.一种光刻投影装置,包括:
支撑结构,配置用于保持构图装置,所述构图装置配置用于根据所 需的图案对辐射束构图;
投影系统,配置用于将带图案的辐射束投影到基底的目标部分上; 以及
配置用于确定所述构图装置相对于所述投影系统的空间位置的组 件,所述组件包括测量单元,所述测量单元具有安装在所述投影系统上的 多个传感器,
其中,所述测量单元配置用于将激光束引导到所述构图装置的反射 部件上,所述反射部件位于所述构图装置的图案区外部且与所述构图装置 的图案区相邻的位置上。
2.根据权利要求1所述的光刻投影装置,还包括EUV辐射源。
3.根据权利要求1所述的光刻投影装置,其中所述测量单元包括6 自由度的干涉仪测量系统。
4.根据权利要求1所述的光刻投影装置,其中所述传感器中的至少 一个配置成在所述构图装置的图案区外的所述构图装置的反射部件上使 用激光束。
5.根据权利要求1所述的光刻投影装置,其中,所述光刻投影装置 配置用于沿着扫描方向照射所述构图装置,并且所述构图装置相对于所述 投影系统的空间位置利用第一平面中的至少三个测量点、第一直线上的不 在第一平面内的至少两个测量点以及既不在第一平面内也不在第一直线 上的至少一个测量点来确定,所述第一平面与所述扫描方向成一角度。
6.根据权利要求5所述的光刻投影装置,其中所述测量点位于所述 支撑结构上。
7.根据权利要求5所述的光刻投影装置,其中所述测量点中的至少 两个位于所述构图装置上,且位于所述构图装置的图案区外。
8.根据权利要求4所述的光刻投影装置,其中所述反射部件是反射 条。
9.根据权利要求1所述的光刻投影装置,其中所述测量单元配置用 于确定所述构图装置在第一方向上相对于所述投影系统的位置,当所述构 图装置被所述支撑结构所保持时,所述第一方向与所述构图装置的图案区 的平面基本上垂直。
10.根据权利要求1所述的光刻投影装置,其中所述反射部件是反 射性的,且所述图案区和所述反射部件位于所述构图装置的同一侧。
11.一种光刻投影装置,包括:
支撑结构,配置用于保持构图装置,所述构图装置配置用于根据所 需的图案对辐射束构图;
投影系统,配置用于将带图案的辐射束投影到基底的目标部分上; 以及
测量单元,配置用于在所述构图装置被所述支撑结构所保持时将激 光束引导到所述构图装置的反射部件上,所述反射部件位于所述构图装置 的图案区外部且与所述构图装置的图案区相邻的位置上,所述测量单元还 配置用于采用所述激光束确定所述构图装置在第一方向上的位置,在所述 构图装置被所述支撑结构所保持时,所述第一方向与所述构图装置的图案 区的平面基本垂直。
12.根据权利要求11所述的光刻投影装置,其中所述反射部件是反 射性的,且所述图案区和所述反射部件位于所述构图装置的同一侧。
13.根据权利要求11所述的光刻投影装置,其中所述测量单元配置 用于沿着第一方向引导所述激光束。
14.根据权利要求11所述的光刻投影装置,其中所述测量单元安装 在所述投影系统上。
15.根据权利要求11所述的光刻投影装置,其中所述测量单元配置 用于将至少两对激光束引导到所述构图装置上的至少两个反射部件上。
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