[发明专利]感光性组合物和基板的加工基板的制造方法无效

专利信息
申请号: 200910169157.6 申请日: 2009-09-11
公开(公告)号: CN101673053A 公开(公告)日: 2010-03-17
发明(设计)人: 畠山晶 申请(专利权)人: 富士胶片株式会社
主分类号: G03F7/028 分类号: G03F7/028;G03F7/00
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 代理人: 朱 丹
地址: 日本国*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 感光性 组合 加工 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种感光性组合物,其是在1分子中至少含有0.01~99.99质量%的以下的聚合性单体(A)、0~98质量%的1官能以上的聚合性单体(B)、0.1~15质量%的光聚合引发剂的感光性组合物,所述聚合性单体(B)为除相当于聚合性单体(A)以外的单体,

所述聚合性单体(A)在1分子中具有1种以上的含乙烯性不饱和双键的官能团X和1种以上的官能团Y,以下述曝光条件进行曝光时,官能团X的反应率为50%以上,官能团Y的反应率不足50%,并且以下述曝光条件进行曝光后,再在200℃进行30分钟热处理后,官能团X和官能团Y的反应率均为80%以上,

曝光条件:将组合物以使干燥膜厚为6μm的方式涂覆在基板上,使用高压水银灯对所得涂膜在100mJ/cm2的条件下进行曝光,所述组合物中,相对于仅含有1种官能团作为聚合性官能团的聚合性单体100质量份,添加有5质量份的2,2-二甲氧基-1,2二苯基乙烷-1-酮作为光聚合引发剂。

2.根据权利要求1所述的感光性组合物,其特征在于,所述官能团Y具有乙烯性不饱和双键。

3.根据权利要求1所述的感光性组合物,其特征在于,聚合性单体(A)的含量为10~99质量%。

4.根据权利要求1所述的感光性组合物,其特征在于,聚合性单体(B)的含量为70质量%以下。

5.根据权利要求1所述的感光性组合物,其特征在于,所述官能团Y的个数为1~10。

6.根据权利要求1~4中任一项所述的感光性组合物,其特征在于,所述官能团X的个数为1,所述聚合性单体(B)所具有的官能团的个数为1~10。

7.根据权利要求6所述的感光性组合物,其特征在于,所述官能团X为(甲基)丙烯酸酯基。

8.根据权利要求6所述的感光性组合物,其特征在于,所述官能团Y选自烯丙基酯基、乙烯基醚基、烯丙基醚基、炔丙基醚基、炔丙基酯基、环己烯基、环戊烯基、二环戊烯基、苯乙烯基、环氧基、氧杂环丁烷基、烷氧基甲硅烷基和异氰酸酯基。

9.根据权利要求6所述的感光性组合物,其特征在于,重均分子量为1000以上的高分子的含量为10质量%以下。

10.根据权利要求6所述的感光性组合物,其特征在于,非反应性的有机溶剂的添加量为10质量%以下。

11.一种加工基板的制造方法,其特征在于,使用权利要求1~10中任一项所述的感光性组合物。

12.一种加工基板的制造方法,包括下述〔工序1〕~〔工序4〕,

〔工序1〕使基板与在表面具有所需抗蚀图案的反转图案的模具组合,使权利要求1~10中任一项所述的感光性组合物夹持在所述基板的表面与所述模具的图案面之间的工序;

〔工序2〕通过曝光,使所述感光性组合物中的聚合性单体聚合,从而在基板上形成抗蚀图案的工序;

〔工序3〕将模具从形成有抗蚀图案的基板剥离的工序;

〔工序4〕对形成有抗蚀图案的基板在100℃以上的温度进行5分钟以上的热处理的工序。

13.一种固化物,其是使权利要求1~10中任一项所述的感光性组合物固化而得。

14.一种基板,其通过权利要求12所述的基板的制造方法得到。

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