[发明专利]光学控制装置及方法有效

专利信息
申请号: 200910170568.7 申请日: 2009-09-10
公开(公告)号: CN102023732A 公开(公告)日: 2011-04-20
发明(设计)人: 沈文君;宋松霖;廖国村;吴永禄 申请(专利权)人: 和硕联合科技股份有限公司
主分类号: G06F3/038 分类号: G06F3/038
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人: 任永武
地址: 中国台湾台北*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要:
搜索关键词: 光学 控制 装置 方法
【权利要求书】:

1.一种光学控制装置,设于数据处理系统,用以配合至少一个第一反射单元以及第二反射单元,控制所述数据处理系统执行指令,其特征是,所述光学控制装置包含:

发光单元,用以发射光线;

影像感测模块,接收多个物件反射所述光线而成的多个反射光线,并分别形成多个影像区块;以及

处理模块,连接所述影像感测模块,用以识别所述这些影像区块中代表所述第二反射单元的定位影像区块,根据其它影像区块与所述定位影像区块的距离识别代表所述至少一个第一反射单元的至少一个第一影像区块,并根据所述至少一个第一影像区块的位移特征控制所述数据处理系统执行所述指令。

2.根据权利要求1所述的光学控制装置,其特征是,所述光线为红外光或近红外光。

3.根据权利要求1所述的光学控制装置,其特征是,所述至少一个第一反射单元的外观与所述第二反射单元的外观相异。

4.根据权利要求1所述的光学控制装置,其特征是,所述至少一个第一反射单元的反射强度与所述第二反射单元的反射强度相异。

5.根据权利要求1所述的光学控制装置,其特征是,所述影像感测模块进一步包含:

感测单元,包含具有多个感光像素的二维阵列,用以形成所述这些影像区块;以及

透镜单元,用以将所述多个反射光线聚焦于所述二维阵列上。

6.根据权利要求1所述的光学控制装置,其特征是,所述光学控制装置进一步包含:

过滤单元,分别连接所述影像感测模块以及所述处理模块,用以滤除所述这些影像区块中感光强度小于预设强度的影像区块。

7.根据权利要求1所述的光学控制装置,其特征是,所述位移特征选自由位移轨迹、位移距离以及位移方向所组成的群组中的至少一个。

8.根据权利要求1所述的光学控制装置,其特征是,所述指令包含所述数据处理系统的屏幕上所显示的光标的动作。

9.根据权利要求1所述的光学控制装置,其特征是,所述光学控制装置进一步包含:

支持构件,连接所述处理模块,所述支持构件定义操作表面,其中当使用者接触所述操作表面时,所述支持构件产生并传送启动信号至所述处理模块,致使所述处理模块根据所述启动信号自所述影像感测模块接收所述这些影像区块。

10.一种光学控制方法,用以配合至少一个第一反射单元以及第二反射单元,控制数据处理系统执行指令,其特征是,所述光学控制方法包含下列步骤:

(a)发射光线;

(b)接收多个物件反射所述光线而成的多个反射光线,并分别形成多个影像区块;

(c)识别所述这些影像区块中代表所述第二反射单元的定位影像区块;

(d)根据其它影像区块与所述定位影像区块的距离识别代表所述至少一个第一反射单元的至少一个第一影像区块;以及

(e)根据所述至少一个第一影像区块的位移特征控制所述数据处理系统执行所述指令。

11.根据权利要求10所述的光学控制方法,其特征是,所述光线为红外光或近红外光。

12.根据权利要求10所述的光学控制方法,其特征是,所述至少一个第一反射单元的外观与所述第二反射单元的外观相异。

13.根据权利要求10所述的光学控制方法,其特征是,所述至少一个第一反射单元的反射强度与所述第二反射单元的反射强度相异。

14.根据权利要求10所述的光学控制方法,其特征是,所述光学控制方法进一步包含下列步骤:

滤除所述这些影像区块中感光强度小于预设强度的影像区块。

15.根据权利要求10所述的光学控制方法,其特征是,所述位移特征选自由位移轨迹、位移距离以及位移方向所组成的群组中的至少一个。

16.根据权利要求10所述的光学控制方法,其特征是,所述指令包含所述数据处理系统的屏幕上所显示的光标的动作。

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