[发明专利]再现设备和再现方法

说明书

技术领域

本发明涉及再现设备及再现方法，该再现设备构造为再现通过参考光和信号光产生的干涉条纹而记录在全息图记录介质上的数据。

背景技术

例如，日本未审查专利中请公开No.2006-107663和No.2007-79438揭示了全息图记录再现系统，在该全息图记录再现系统中通过由信号光和参考光产生的干涉条纹而形成全息图来记录数据，并且通过辐照参考光来再现以作为干涉条纹的全息图的形式记录的该数据。该全息图记录再现系统包括所谓的同轴系统，其中为了记录将信号光和参考光设置在相同的轴上。

图14、15A和15B是说明性示意图，用于描述同轴系统的全息图记录再现系统。图14示出了记录系统，而图15A和15B示出了再现系统。

首先，在图14中，记录时，SLM(spatial light modulator：空间光调制器)101对来自光源的入射光施加空间光强度调制(也称为光强调制，或者简称为强度调制)，从而产生如图所示的设置在相同轴上的信号光和参考光。例如，SLM 101可以由设计为以像素为单位透射/阻止入射光的液晶面板等构成。

此时，信号光产生并且根据记录数据而被提供有光强度图案。同样，参考光产生并被提供有预定的强度图案。

在SLM 101中如此产生的信号光和参考光进入相位掩模102。此时，相位掩模102给信号光和参考光提供随机相位图案，如图所示。

这里，给信号光和参考光提供随机相位调制图案，以改善信号光和参考光的干涉效率并分散信号光和参考光的光谱，从而抑制了DC成分(DCcomponent)并实现了较高的记录密度。

例如，实现DC成分抑制的具体的随机相位图案包括根据两个值″0″和″π″来设定随机相位图案的随机相位图案。就是说，这样的随机相位调制图案设定为使得不执行相位调制的像素(即相位＝0)和相位以π(180°)调制的像素设置为各一半。

这里，取决于SLM 101的光强度调制，对于信号光，产生光强度根据记录数据而被调制成″0″或″1″的光。通过在这样的信号光上施加基于″0″或″π″的相位调制，产生光的波前振幅(wavefront amplitude)为″-1″、″0″或″1(+1)″的光。就是说，当给由光强度″1″调制的像素施加基于相位″0″的调制时，振幅为″1″，而实现基于相位″π″的调制时，振幅为″-1″。应当注意的是，对于光强度″0″的像素，对于基于相位″0″或″π″的任何调制，振幅都保持为″0″。

为了确认，图16A和16B示出了相位掩模102不存在(图16A)的情况下和相位掩模102存在(图16B)的情况下信号光和参考光的差别。应当注意的是，图16A和16B表示基于颜色密度的光振幅的大小关系。更具体地讲，图16A以黑→白表示振幅″0″→″1″，而图16B以黑→灰→白表示振幅″-1″→″0″→″1(+1)″。

相位掩模102产生的相位图案是随机图案。通过这样的构造，在从SLM101输出的信号光中，光强为″1″的像素可以随机分成振幅为″1″和″-1″的像素(各一半)。以这样的方式，因为像素随机分成了具有振幅″1″和″-1″，光谱可以均匀地分散在傅立叶平面(频面：可以认为是介质上的图像)上。因此，可以实现信号光中的DC成分的抑制。另外，通过相位掩模102，也可以实现参考光中的DC成分的抑制。结果，可以防止在傅立叶平面上产生DC成分。

这样，当可以实现DC成分的抑制时，就可以改善数据的记录密度。

这是因为，在产生DC成分的情况下，记录材料基本上会受到DC成分的影响，并且难于执行全息图的多重记录。就是说，对于记录了DC成分的部分，难于再增加记录的全息图(数据)。

当通过采用上述随机相位图案而实现DC成分的抑制时，可以执行数据多重记录，并且实现较高的记录密度。

将描述返回到先前的部分。

通过相位掩模102的信号光和参考光被物镜103聚集，并且用聚集的光辐照全息图记录介质HM。通过这样的构造，在全息图记录介质HM中，根据信号光(记录图像)形成干涉条纹(衍射光栅：全息图)。就是说，基于干涉条纹的形成来记录数据。

随后，在再现时，首先，如图15A所示，对于入射光，通过SLM 101的空间光调制(强度调制)产生参考光。然后，用这样产生的参考光经由相位掩模102→物镜103来辐照全息图记录介质HM。