[发明专利]薄膜沉积用的掩模及用该掩模制造有机发光显示器的方法

权利要求书

1.一种用于薄膜沉积的掩模，包括：

底构件；和

穿透所述底构件的多个狭缝，其中所述多个狭缝具有预定长度并沿第一 方向延伸，其中所述多个狭缝包括置于沿第二方向的最外位置的最外狭缝， 所述第二方向相对于所述第一方向具有预定角度，并且其中每个所述最外狭 缝包括通过肋支撑部件彼此分离的两个子狭缝，并且在所述多个狭缝中，只 有每个所述最外狭缝包括通过肋支撑部件彼此分离的两个子狭缝。

2.如权利要求1所述的用于薄膜沉积的掩模，其中所述肋支撑部件与所 述底构件整体地形成。

3.如权利要求2所述的用于薄膜沉积的掩模，其中所述肋支撑部件的宽 度是10μm到100μm。

4.如权利要求3所述的用于薄膜沉积的掩模，其中所述狭缝的长度是 2cm。

5.如权利要求1所述的用于薄膜沉积的掩模，其中所述底构件由金属材 料形成。

6.如权利要求1所述的用于薄膜沉积的掩模，还包括：

框架，该框架包括彼此相对的一对第一边和一对第二边，其中开口通过 所述第一边和所述第二边的内部周界限定在所述框架中，

其中所述第一边和所述第二边中的至少一个连接到所述底构件的边缘。

7.如权利要求1所述的用于薄膜沉积的掩模，还包括：

第一掩模带，包括所述底构件、所述多个狭缝以及所述肋支撑部件；

第二掩模带，包括第二底构件和限定在所述第二底构件中的多个狭缝， 其中所述第二掩模带不包括肋支撑部件；以及

框架，包括彼此相对的一对第一边和一对第二边，其中开口通过所述第 一边和所述第二边的内部周界限定在所述框架中，

其中所述第一掩模带的两个纵向端部和所述第二掩模带的两个纵向端 部接合到所述第一边，并且其中所述第一掩模带的最外狭缝布置为最邻近所 述第二边。

8.如权利要求1所述的用于薄膜沉积的掩模，其中所述肋支撑部件从与 所述最外狭缝相邻的肋延伸。

9.一种制造有机发光器件的方法，包括：

提供掩模，该掩模包括：底构件；多个狭缝，限定在所述底构件中并穿 透所述底构件，其中所述多个狭缝包括分成两个子狭缝的最外狭缝，并且在 所述多个狭缝中，只有所述最外狭缝分成两个子狭缝；和肋支撑部件，形成 在所述两个子狭缝之间，以及其中所述肋支撑部件从与所述最外狭缝相邻的 肋延伸；以及

通过所述掩模的狭缝将有机发光膜沉积在所述有机发光器件的第一电 极和第二电极之间，其中所述第一电极和所述第二电极形成在基板上。

10.如权利要求9所述的制造有机发光器件的方法，还包括：

通过使用磁体阵列将磁力施加到所述掩模，从而所述掩模紧密地附着到 所述基板，其中所述基板设置在所述掩模和所述磁体阵列之间，其中所述磁 体阵列包括长条形状的多个磁体，其中该磁体的延伸方向相对于所述掩模的 多个狭缝的长度方向具有预定角度。

11.如权利要求9所述的制造有机发光器件的方法，其中所述肋支撑部 件的宽度是10μm到100μm。

12.如权利要求9所述的制造有机发光器件的方法，其中所述狭缝的长 度是至少2cm。

13.一种用于薄膜沉积的掩模，包括：

底构件；

被限定在所述底构件中的多个贯穿狭缝，其中所述多个贯穿狭缝具有预 定长度并沿第一方向延伸，以及其中所述多个贯穿狭缝包括最外狭缝，每个 所述最外狭缝均被分成两个子狭缝，并且在所述多个贯穿狭缝中，只有每个 所述最外狭缝被分成两个子狭缝；

多个肋，每个肋都形成在所述多个贯穿狭缝中的两个相邻贯穿狭缝之 间，其中所述多个肋包括与所述最外狭缝相邻的最外肋；以及

肋支撑物，每个所述肋支撑物从所述最外肋延伸并位于所述两个子狭缝 之间。

14.如权利要求13所述的用于薄膜沉积的掩模，其中所述多个贯穿狭缝 彼此平行。