[发明专利]成膜装置及基板处理装置

权利要求书

1.一种成膜装置，在真空容器内，按顺序供给包含第1反 应气体和第2反应气体的至少两种原料气体，并通过实施按顺 序供给所述至少两种原料气体的供给循环来形成薄膜，其特征 在于，具有：

旋转台，其设置在所述真空容器内并能在真空容器内旋转， 且具有载置基板的基板载置部；

第1反应气体供给部和第2反应气体供给部，其用于供给所 述第1反应气体和所述第2反应气体，且各自从所述旋转台的周 缘上的不同位置朝向旋转中心设置；

第1分离气体供给部，其从所述旋转台周缘上的位于所述 第1反应气体供给部和所述第2反应气体供给部之间的位置，朝 向旋转中心设置，以便供给将所述第1反应气体和所述第2反应 气体分离开的第1分离气体；

第1下表面区域，其是所述真空容器顶板包含所述第1反应 气体供给部的部分的下表面，距所述旋转台的高度为第1高度；

第1空间，其形成于所述第1下表面区域和所述旋转台之 间；

第2下表面区域，其是所述真空容器顶板包含所述第2反应 气体供给部的部分的下表面，位于和所述第1下表面区域隔开 的位置，距所述旋转台的高度为第2高度；

第2空间，其形成于所述第2下表面区域和所述旋转台之 间；

第3下表面区域，其是所述顶板包含所述第1分离气体供给 部、且沿所述旋转台的旋转方向位于所述第1分离气体供给部 两侧的部分的下表面，距所述旋转台的高度为比所述第1高度 和所述第2高度都要低的第3高度；

狭窄的第3空间，其形成于所述第3下表面区域和所述旋转 台之间，具有用于使从所述第1分离气体供给部流出的所述第1 分离气体流入所述第1空间和所述第2空间的所述第3高度；

中心部区域，其是所述顶板的下表面上的设置有第2分离 气体供给部的部分，该第2分离气体供给部用于向所述旋转台 的旋转中心的所述基板载置部侧，供给用于将所述第1反应气 体和所述第2反应气体分离开的第2分离气体；

排气口，其将所述第1反应气体和所述第2反应气体，连同 向所述第3空间按两侧喷出的所述第1分离气体和自所述中心 部区域喷出的所述第2分离气体一起排出；

电动机，其设置在所述旋转台的旋转轴的下方，驱动所述 旋转台旋转，

并且，所述旋转台的旋转轴和所述电动机的驱动轴以不发 生空转的方式连接。

2.根据权利要求1所述的成膜装置，其特征在于，所述旋 转台的旋转轴的轴心和所述电动机的驱动轴的轴心对齐，所述 旋转台的旋转轴和所述电动机的驱动轴以彼此间不会发生角度 错位的方式连接。

3.根据权利要求1所述的成膜装置，其特征在于，具有将 所述电动机的驱动力传递给所述旋转台的传递装置，其使用齿 轮对所述电动机的转速减速。

4.根据权利要求1所述的成膜装置，其特征在于，所述电 动机包含伺服电动机。

5.根据权利要求1所述的成膜装置，其特征在于，具有第 3分离气体供给部，该第3分离气体供给部向所述旋转台的旋转 中心的下侧，供给将所述第1反应气体和所述第2反应气体分离 开的第3反应气体。

6.根据权利要求1所述的成膜装置，其特征在于，具有第 4分离气体供给部，该第4分离气体供给部向所述真空容器的底 面和所述旋转台之间，供给用于将所述第1反应气体和所述第2 反应气体分离开的第4分离气体。

7.根据权利要求1所述的成膜装置，其特征在于，还具有： 支柱，其在所述真空容器的中心部，设置在所述顶板的下表面 和所述真空容器的底面之间；旋转套筒，其环绕所述支柱，能 绕铅直轴线旋转，

所述旋转套筒是所述旋转台的旋转轴。

8.根据权利要求1所述的成膜装置，其特征在于，取代所 述第1下表面区域，具有：

第4下表面区域，其包含所述第1反应气体供给部，距所述 旋转台的高度低于所述第1高度；

第5下表面区域，其与所述第4下表面区域相邻，距所述旋 转台的高度为所述第1高度。