[发明专利]一种呈阵列布置的多掩模光刻机硅片台系统

权利要求书

1.一种呈阵列布置的多掩模光刻机硅片台系统，该系统含有基台(1)，至少一个硅片台，一组光学透镜(4)和掩模台系统，其特征在于：所述的掩模台系统包括掩模台基座(5)、掩模承载运动台(6)和掩模承载台(7)，所述的掩模台基座(5)的长边为Y方向，短边为X方向，掩模承载运动台(6)在掩模台基座(5)上沿Y方向作直线运动，掩模承载台(7)在掩模承载运动台(6)上沿X方向作直线运动；在掩模承载台(7)上设有多个掩模版安装槽，多个掩模版安装槽呈阵列布置，每个掩模版安装槽内放置一块掩模版；

在进行扫描曝光工序时，根据硅片的尺寸，预先在待刻硅片上划分出若干区域，每个这样的区域称为一个场，在曝光每一个场的过程中，首先，掩模承载运动台(6)沿着Y方向向右运动，第一掩模版(8a)和第二掩模版(8b)依次经过投影区，但只有第一掩模版(8a)被扫描，同时地，硅片台做与掩模承载运动台(6)的反向运动，沿着Y方向向左运动，此时，第一掩模版(8a)的图案刻在硅片上，掩模承载台(7)减速反向，同时，冷却装置使硅片上的光刻胶急速冷却，之后，硅片台减速反向；然后，掩模承载运动台(6)沿着Y方向向左运动，第二掩模版(8b)、第一掩模版(8a)依次再经过投影区，此时只有第二掩模版(8b)被扫描，同时地，硅片台仍做与掩模承载运动台的反向运动，沿着Y方向向右运动，此时第二掩模版(8b)图案刻在硅片上，至此完成了一个场一层图形的扫描曝光，掩模承载运动台(6)减速反向，同时掩模承载台沿X方向移动使第三掩模版(8c)和第四掩模版(8d)进入投影区，同时，冷却装置使硅片上的光刻胶急速冷却，之后，硅片台减速反向等待下一次扫描，这次运动与扫描第一掩模版(8a)和第二掩模版(8b)时相同；当四块掩模版都扫描完成后，硅片台步进至下一场继续曝光，依次循环。

2.按照权利要求1所述的一种呈阵列布置的多掩模光刻机硅片台系统，其特征在于：多个掩模版安装槽呈矩形阵列布置。

3.按照权利要求1所述的一种呈阵列布置的多掩模光刻机硅片台系统，其特征在于：所述的掩模承载运动台(6)在掩模台基座(5)上沿Y方向作直线运动采用气浮导轨和直线电机做导向驱动，或采用直线导轨、滚珠丝杠和伺服电机做导向驱动；掩模承载台(7)在掩模承载运动台(6)上沿X方向作直线运动采用气浮导轨和直线电机做导向驱动，或采用直线导轨、滚珠丝杠和伺服电机做导向驱动。