[发明专利]偏光调变光学元件、光学照明装置、曝光装置及曝光方法

权利要求书

1、一种偏光调变光学元件，适用于基于来自光源的光束而对掩膜进行照明的光学照明装置中，所述偏光调变光学元件的特征在于：

所述偏光调变光学元件含有：

具有结晶光学轴的旋光性结晶；以及

在所述结晶光学轴的方向中所测定厚度的可变厚度轮廓。

2、根据权利要求1所述的偏光调变光学元件，其特征在于：

所述偏光调变元件将第1直线偏光光线的偏光方向仅旋转第1旋转角度，且将第2直线偏光光线的偏光方向仅旋转第2旋转角度，所述第2旋转角度与所述第1旋转角度相异。

3、根据权利要求1所述的偏光调变光学元件，其特征在于：

所述旋光性结晶为水晶。

4、根据权利要求1所述的偏光调变光学元件，其特征在于：

所述偏光调变元件将具有第1直线偏光分布的入射光束变换成具有第2直线偏光分布的出射光束，且所述第1直线偏光分布与所述第2直线偏光分布为相异。

5、根据权利要求4所述的偏光调变光学元件，其特征在于：

所述出射光束的第2直线偏光分布为：将圆周方向作为偏光方向的偏光分布。

6、根据权利要求1所述的偏光调变光学元件，其特征在于：

所述偏光调变元件具有：沿着光的入射方向厚度互异的第1部分与第2部分。

7、根据权利要求6所述的光学照明装置，其特征在于：

所述第1部分将入射的直线偏光的偏光方向旋转第1旋转角度，且所述第2部分将入射的直线偏光的偏光方向旋转第2旋转角度，所述第2旋转角度与所述第1旋转角度为相异。

8、根据权利要求7所述的偏光调变光学元件，其特征在于：

从所述第1部分射出的直线偏光的偏光方向、与从所述第2部分射出的直线偏光的偏光方向相互垂直。

9、一种偏光调变光学元件，适用于基于来自光源的光束而对掩膜进行照明的光学照明装置中，所述偏光调变光学元件的特征在于：

第1直线偏光的偏光方向与第2直线偏光的偏光方向分别旋转了第1旋转角度与第2旋转角度，

所述第1旋转角度与所述第2旋转角度互异，

所述偏光调变光学元件包含旋光性材料。

10、根据权利要求9所述的偏光调变光学元件，其特征在于：

所述偏光调变元件具有：沿着光的入射方向厚度互异的第1部分与第2部分。

11、根据权利要求10所述的偏光调变光学元件，其特征在于：

所述第1部分将入射的直线偏光的偏光方向旋转第1旋转角度，且所述第2部分将入射的直线偏光的偏光方向旋转第2旋转角度，所述第2旋转角度与所述第1旋转角度为相异。

12、根据权利要求11所述的偏光调变光学元件，其特征在于：

从所述第1部分射出的直线偏光的偏光方向、与从所述第2部分射出的直线偏光的偏光方向相互垂直。

13、一种光学照明装置，为对掩膜进行照明的光学照明装置，所述光学照明装置的特征在于包括：

权利要求1至12中任一权利要求所述的偏光调变光学元件。

14、一种曝光装置，为制造电子元件所使用的曝光装置，所述曝光装置的特征在于包括：

光源；

权利要求13所述的光学照明装置；

照明光学系统，基于来自所述光源的光束而对掩膜进行照明；以及

投影光学系统，将所述掩膜的像投影在感光性基板上。

15、根据权利要求14所述的曝光装置，其特征在于：

具有与空气的折射率相异的液体，其存在于所述感光性基板、及与所述感光性基板最靠近的光学元件之间。

16、一种曝光方法，其特征在于其包括：

照明工程，使用权利要求13所述的光学照明装置对配置在被照射面的掩膜进行照明；以及

曝光工程，对所述掩膜的所述图案在所述感光性基板上进行曝光。