[发明专利]选择性射极结构的电极图形的对齐方法

权利要求书

1.一种选择性射极结构的电极图形的对齐方法，其特征在于包括：

提供一基材；

于所述基材的一表面上形成一障壁图案，其中所述障壁图案部分覆盖所述基材的所述表面，且所述障壁图案覆盖的所述基材的所述表面定义出一第一区域，而所述障壁图案未覆盖的所述基材的所述表面定义出一第二区域；

改变所述第二区域的所述基材的表面特性，借此使所述第一区域与所述第二区域的所述基材具有不同的表面性质，而形成一图形化可视标记；

由所述基材的所述表面移除所述障壁图案；以及

以所述图形化可视标记作为一对准标记。

2.如权利要求1所述的选择性射极结构的电极图形的对齐方法，其特征在于形成所述障壁图案的方法包括于所述基材的所述表面形成一图形化障壁材料。

3.如权利要求2所述的选择性射极结构的电极图形的对齐方法，其特征在于所述图形化障壁材料另包含一扩散材料。

4.如权利要求3所述的选择性射极结构的电极图形的对齐方法，其特征在于另包括利用所述扩散材料于所述第一区域的所述基材内形成一掺杂区。

5.如权利要求2所述的选择性射极结构的电极图形的对齐方法，其特征在于所述基材的所述表面的所述图形化障壁材料是利用一喷墨工艺加以形成。

6.如权利要求1所述的选择性射极结构的电极图形的对齐方法，其特征在于改变所述第二区域的表面特性包括改变所述基材的一表面粗糙度，以造成所述第一区域与所述第二区域的光学性质的差异。

7.如权利要求6所述的选择性射极结构的电极图形的对齐方法，其特征在于改变所述基材的所述表面粗糙度是利用一蚀刻工艺加以达成。

8.一种太阳能电池的选择性射极结构的电极图形的对齐方法，其特征在于包括：

提供一基材；

于所述基材的一表面上形成一障壁图案，其中所述障壁图案部分覆盖所述基材的所述表面，且所述障壁图案覆盖的所述基材的所述表面定义出一第一区域，而所述障壁图案未覆盖的所述基材的所述表面定义出一第二区域；

改变所述第二区域的所述基材的表面特性，借此使所述第一区域与所述第二区域的所述基材具有不同的表面性质，而形成一图形化可视标记；

由所述基材的所述表面移除所述障壁图案；以及

以所述图形化可视标记作为一对准标记，于所述第一区域的所述基材上形成一电极图形。

9.如权利要求8所述的太阳能电池的选择性射极结构的电极图形的对齐方法，其特征在于形成所述障壁图案的方法包括于所述基材的所述表面形成一图形化障壁材料。

10.如权利要求9所述的太阳能电池的选择性射极结构的电极图形的对齐方法，其特征在于所述图形化障壁材料另包含一扩散材料。

11.如权利要求10所述的太阳能电池的选择性射极结构的电极图形的对齐方法，其特征在于另包括利用所述扩散材料于所述第一区域的所述基材内形成一掺杂区。

12.如权利要求9所述的太阳能电池的选择性射极结构的电极图形的对齐方法，其特征在于所述基材的所述表面的所述图形化障壁材料是利用一喷墨工艺加以形成。

13.如权利要求8所述的太阳能电池的选择性射极结构的电极图形的对齐方法，其特征在于改变所述第二区域的表面特性包括改变所述基材的一表面粗糙度，以造成所述第一区域与所述第二区域的光学性质的差异。

14.如权利要求13所述的太阳能电池选择性射极结构的电极图形的对齐方法，其特征在于改变所述基材的所述表面粗糙度是利用一蚀刻工艺加以达成。

15.如权利要求8所述的太阳能电池的选择性射极结构的电极图形的对齐方法，其特征在于所述电极图形是利用一丝网印刷工艺形成。