[发明专利]同时相移的斐索干涉仪有效
申请号: | 200910174744.4 | 申请日: | 2005-01-27 |
公开(公告)号: | CN101694369A | 公开(公告)日: | 2010-04-14 |
发明(设计)人: | 詹姆士·E·弥尔勒德;詹姆士·C·怀恩特 | 申请(专利权)人: | 4D技术公司 |
主分类号: | G01B9/02 | 分类号: | G01B9/02;G01J9/02 |
代理公司: | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人: | 刘建功;车文 |
地址: | 美国亚*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 同时 相移 干涉仪 | ||
1.一种光学干涉测量系统,用于表征与光学腔中的参考表面相对的测试表面,包括:
光延迟线,它对输入光束起作用以产生以预定光路延迟暂时分开的两光束;
用于以各自正交的偏振状态偏振所述两光束的装置;
用于将经偏振的所述两光束投射向所述光学腔以产生具有正交偏振状态的测试光束和参考光束的装置;
用于产生该测试和参考光束的多个副本的装置;
用于在该参考和测试光束的所述副本之间产生不同的相对相位移动的装置;
用于将该参考和测试光束的所述副本结合以产生干涉图的装置;以及
用于检测和空间采样所述干涉图的装置。
2.如权利要求1所述的光学干涉测量系统,还包括用于改变所述光路延迟的装置。
3.如权利要求1所述的光学干涉测量系统,其中,所述输入光束具有小于所述光学腔的长度的两倍的相干长度。
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