[发明专利]用于显影静电潜像的显影单元有效
申请号: | 200910174786.8 | 申请日: | 2003-03-12 |
公开(公告)号: | CN101673077A | 公开(公告)日: | 2010-03-17 |
发明(设计)人: | 佐藤正吾;堀乃江满 | 申请(专利权)人: | 兄弟工业株式会社 |
主分类号: | G03G15/08 | 分类号: | G03G15/08;G03G9/08 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人: | 茅翊忞 |
地址: | 日本爱知*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 显影 静电 单元 | ||
1.一种使用显影剂将一静电潜像显影成一可视图像的显影单元,所述显影单 元包括:
一保持腔壁,所述保持腔壁形成了其中保持显影剂的保持腔;
一显影腔壁,所述显影腔壁形成了一显影腔;
一分隔壁,所述分隔壁设置在保持腔和显影腔之间,分隔壁形成有一个使保 持腔与显影腔流体连通的通孔;
一输送器,所述输送器设置在保持腔内,用于从保持腔通过通孔向显影腔输 送显影剂;
一限制器,所述限制器设置成局部地阻挡通孔,限制器允许由输送器输送的 显影剂通过通孔从保持腔到达显影腔,并且限制显影剂通过通孔从显影腔到达保持 腔,所述限制器在通孔(37)处限定多个狭槽(62b);
一设置在显影腔中的显影剂承载构件,显影剂承载构件承载用于使图像显影 的显影剂;
一供给构件,所述供给构件设置在显影腔内,用于向显影剂承载构件供给显 影剂;以及
一阻挡构件,所述阻挡构件用于阻挡显影剂通过保持腔和显影腔之间的通孔, 所述阻挡构件形成有多个开口(64),所述开口的形状和间隔与狭槽相同,其中, 阻挡构件在闭合通孔的第一位置和打开通孔的第二位置之间可移动,从而有选择地 允许和阻挡显影剂通过通孔,在第一位置中,所述狭槽被所述阻挡构件闭合,而在 第二位置中,所述狭槽和所述开口彼此对准。
2.如权利要求1所述的显影单元,其特征在于,当保持阻挡构件的第一位置 时,在首次显影操作之前的初始阶段中,显影腔内显影剂相对于显影腔总容积的密 度保持得比显影剂的筛分表观密度大。
3.如权利要求1所述的显影单元,其特征在于,显影腔和通孔设置成一种允 许显影剂由输送器输送到供给构件的一上部上的几何关系。
4.如权利要求1所述的显影单元,其特征在于,供给构件在显影腔内相对于 重力拉动方向位于显影腔内的显影剂的下方的一个位置中,由此,显影剂重力向下 施压在供给构件上。
5.如权利要求4所述的显影单元,其特征在于,显影剂承载构件在显影腔内 位于供给构件旁的一个位置中,并且相对于供给构件位于通孔的相反侧,显影单元 还包括:
一层厚调节构件,所述层厚调节构件定位在显影剂承载构件的旁边,以将承 载在显影剂承载构件上的一层显影剂的厚度调节至一预定厚度,层厚调节构件在显 影腔内位于输送的显影剂和显影剂承载构件之间的一个位置中,从而限制输送的显 影剂的重力直接施压到显影剂承载构件上。
6.如权利要求1所述的显影单元,其特征在于,供给构件和显影剂承载构件 相互接触设置。
7.如权利要求1所述的显影单元,其特征在于,还包括一图像承载构件,该 图像承载构件包括一个沿预定方向延伸一预定长度的成像区域;所述通孔沿预定方 向延伸一长度,并且其长度基本与成像区域的长度相等。
8.如权利要求1所述的显影单元,其特征在于,图像承载构件包括一个成像 区域,该成像区域沿预定方向延伸一预定长度;所述输送器具有沿预定方向的一宽 度,其宽度与成像区域的长度基本相等。
9.如权利要求1所述的显影单元,其特征在于,通孔为细长形状,输送器基 本均匀地沿着通孔的整个长度输送显影剂。
10.如权利要求1所述的显影单元,其特征在于,限制器包括多个与通孔对 齐的板条,所述狭槽限定在所述板条之间。
11.如权利要求1所述的显影单元,其特征在于,限制器和输送器的结构允 许显影剂通入显影腔内,直到显影腔中存在着预定量的显影剂,由此,显影腔内显 影剂的压力与输送器产生的将显影剂推入显影腔中的压力基本相等。
12.如权利要求1所述的显影单元,其特征在于,分隔壁在通孔上方的位置 中还形成有一个门孔,当显影腔中存在过量的显影剂时,该门孔允许显影剂从显影 腔通入保持腔内。
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