[发明专利]集成光学多功能调制器及其制造方法有效
申请号: | 200910176663.8 | 申请日: | 2009-09-25 |
公开(公告)号: | CN102033335A | 公开(公告)日: | 2011-04-27 |
发明(设计)人: | 薛挺;向美华;耿凡 | 申请(专利权)人: | 北京浦丹光电技术有限公司 |
主分类号: | G02F1/035 | 分类号: | G02F1/035;G02F1/01 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 100023 北京市经济技*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 集成 光学 多功能 调制器 及其 制造 方法 | ||
1.一种集成光学多功能调制器,其特征在于:其由晶体基底(1)、Y型波导(2)、斜通臂波导(3)和波导电极(4)构成;在晶体基底(1)上制有Y型波导(2)和斜通臂波导(3),Y型波导(2)的三个分支分别是直通臂波导(5)、分支A(6)和分支B(7),斜通臂波导(3)与直通臂波导(5)处于同一侧,斜通臂波导(3)末端以弯曲的形状贴近Y型波导(2)交叉点,Y型波导(2)与斜通臂波导(3)共同构成一个集成耦合器(8);在晶体基底(1)之上制有波导电极(4),波导电极(4)通过电光效应或热光效应使传输的光波产生相位差,从而形成Mach-Zehnder干涉仪结构,并通过电光效应或热光效应改变所产生的相位差,实现光波的回路与所进入的波导不同。
2.按照权利要求1所述的集成光学多功能调制器,其特征在于:所述晶体基底(1)的输入端设有一个集成耦合器(8),波导电极(4)设于分支A(6)和分支B(7)两侧及中央,光波从直通臂波导(5)和斜通臂波导(3)输入,从分支A(6)和分支B(7)输出。
3.按照权利要求1所述的集成光学多功能调制器,其特征在于:所述晶体基底(1)的输入端和输出端各设有一个集成耦合器(8),两个集成耦合器(8)的分支A(6)和分支B(7)分别连为一体,波导电极(4)设于分支A(6)和分支B(7)两侧及中央,光波从输入端的直通臂波导(5)和斜通臂波导(3)输入,从输出端的直通臂波导(5)和斜通臂波导(3)输出。
4.按照权利要求1所述的集成光学多功能调制器,其特征在于:所述晶体基底(1)输入端设有一个Y型波导(2),晶体基底(1)输出端设有一个集成耦合器(8),Y型波导(2)的分支A(6)和分支B(7)与集成耦合器(8)的分支A(6)和分支B(7)分别连为一体,波导电极(4)设于Y型波导(2)的直通臂波导(5)两侧以及分支A(6)和分支B(7)两侧及中央,光波从输入端的直通臂波导(5)输入,从输出端的直通臂波导(5)和斜通臂波导(3)输出。
5.按照权利要求1所述的集成光学多功能调制器,其特征在于:所述晶体基底(1)为电光晶体基底或热光晶体基底;电光晶体基底为铌酸锂或钽酸锂基底;热光晶体基底为硅或玻璃基底。
6.按照权利要求5所述的集成光学多功能调制器,其特征在于:所述电光晶体基底,对于Z切Y传铌酸锂、钽酸锂晶体则波导电极设计在波导分支结构的正上方,以利用最大的电光系数。
7.按照权利要求1所述的集成光学多功能调制器的制作方法,其特征在于,其制造步骤和工艺如下:
1)在晶体基底(1)上采用光刻工艺制备波导结构;
2)采用退火质子交换,或者钛扩散工艺在铌酸锂等电光晶体上制作光波导;或者在硅等热光基底上制作脊形、矩形波导;
3)在电光晶体基底(1)上光刻制作波导电极(4);或者在热光晶体基底上制作薄膜波导电极(4),用于加热;
4)对晶体基底(1)芯片端面抛光;
5)光纤端面耦合,器件封装。
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