[发明专利]液晶显示装置有效
申请号: | 200910177635.8 | 申请日: | 2009-09-27 |
公开(公告)号: | CN101713882A | 公开(公告)日: | 2010-05-26 |
发明(设计)人: | 关谷有伸;山田泰之 | 申请(专利权)人: | 株式会社日立显示器 |
主分类号: | G02F1/1333 | 分类号: | G02F1/1333;G02F1/1339 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人: | 郭放 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 液晶 显示装置 | ||
技术领域
本发明涉及液晶显示装置,特别涉及将夹持液晶的一对基板利用 密封该液晶的密封件粘贴起来的液晶显示装置。
背景技术
液晶显示装置(液晶显示面板)具有如下结构:将夹持液晶并对 置配置的一对基板作为外围器,并具备由在该液晶的延展方向上的多 个像素的集合构成的图像显示部,利用以包围图像显示部的方式形成 的密封件将上述液晶密封在一对基板之间。
在此情况下,通过使密封件对各基板侧的粘接性良好,可以提高 密封件的密封效果,而得到可靠性高的液晶显示装置。
首先,在这样的结构中,在一对基板中的一个基板的液晶侧的面 上,有形成有所谓的黑底(在本说明书中有时称为遮光膜)的情况。 在黑底中,在图像显示部的各像素的区域中设置有开口,在相邻的像 素之间具有遮光效果,从而提高对比度。
在此情况下,黑底构成为通过向图像显示部的外方延伸至与上述 密封件的形成区域充分地重叠,来实现该图像显示部的周边的遮光。 由此,可以避免由于来自例如配置在液晶显示面板的背面的背光源的 光透射上述密封件及其附近而发生的漏光。
作为与密封件之下的黑底相关的技术,例如已知如日本特开 2008-176237号公报所述,在与密封件重叠的部分的黑底中设置有狭 缝或开口的结构。在该情况下,黑底成为被由树脂构成的保护涂层膜 覆盖的结构,在上述狭缝或开口的部分,涂层膜与基板接触而扩大了 基板与涂层膜的粘接面积,所以提高了粘接强度。
作为与本申请关联的其他文献,例如,有日本特开2008-107488 号公报、日本特开2007-304273号公报。日本特开2008-107488号 公报公开了在与光固化型的密封件重叠的位置处的黑底上设置有狭 缝的结构。记载了如下内容:在此情况下,在与形成有黑底的基板不 同的其他基板上与密封件重叠地形成有遮光性的布线图案,在使上述 密封件固化时,通过形成在该黑底中的狭缝而向上述密封件照射光。 日本特开2007-304273号公报公开了在与光固化型的密封件重叠的 位置处的黑底上设置有狭缝的结构。在该情况下,虽然没有记载日本 特开2008-107488号公报那样的与密封件重叠地配置的布线图案, 但记载了通过形成在该黑底中的狭缝而向上述密封件照射充分的光 的内容。
另外,还有这样的情况,即,液晶显示装置形成为在一对基板的 各自的液晶侧的面上,形成在图像显示部中的绝缘膜等例如以层叠了 多个的状态延伸形成至密封件的形成区域。
因此,例如,在日本特开2007-256415号公报、日本特开2007 -199341号公报、日本特开2007-248743号公报中,公开了通过在 基板的液晶侧的面上形成的绝缘膜等的结构上想办法,而提高密封件 对基板侧的粘接性的内容。
即,在日本特开2007-256415号公报中,公开了如下结构:上 述绝缘膜等由在基板上依次形成的栅绝缘膜和有机绝缘膜的层叠体 构成,该有机绝缘膜在密封件的形成区域中设置有使栅绝缘膜的表面 露出的贯通孔。由此,使密封件通过形成在有机绝缘膜中的贯通孔还 与栅绝缘膜粘接。
另外,在日本特开2007-199341号公报中,公开了如下内容: 上述绝缘膜等由在基板上形成的树脂膜构成,在该树脂膜中,在密封 件的形成区域中设置有使基板的表面露出的贯通孔。由此,使密封件 通过形成在树脂膜中的贯通孔而还与基板粘接。
进而,在日本特开2007-248743号公报中,公开了如下内容: 使在基板上隔着绝缘膜形成的无机取向膜以与密封件的形成区域部 分重叠的形式延伸。密封件由于与上述绝缘膜相比与无机取向膜的密 接性更高,所以可以提高密接性,进而,通过使密封件的形成区域中 具有未形成无机取向膜的部分,而利用无机取向膜来形成台阶,利用 该台阶还起到可以降低水分侵入的效果。
发明内容
此处,在密封件之下配置有黑底的液晶显示装置具有如下问题: 在其制造中,当使在基板上例如通过涂敷形成的密封件固化时,由于 该密封件中发生的应力集中,对在该密封件的下方已经形成的黑底产 生要使其从上述基板剥离的力,使该黑底对于基板侧的粘接性恶化。
因此,本申请的发明人研究了如下内容:在密封件之下的黑底上 设置狭缝或开口,据此来分散在使密封件固化时发生的对于黑底的应 力集中。
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