[发明专利]液体喷射头及液体喷射装置和执行元件装置有效
申请号: | 200910177746.9 | 申请日: | 2009-09-25 |
公开(公告)号: | CN101712234A | 公开(公告)日: | 2010-05-26 |
发明(设计)人: | 宫泽弘;加藤治郎 | 申请(专利权)人: | 精工爱普生株式会社 |
主分类号: | B41J2/14 | 分类号: | B41J2/14;B41J2/045 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 雒运朴;李伟 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 液体 喷射 装置 执行 元件 | ||
1.一种液体喷射头,其特征在于,具有:
流路形成基板,其形成有与喷射液滴的喷嘴开口连通的压力发生 室;和
压电元件,其具备:第1电极、形成在该第1电极上并具有以通式 ABO3表示的钙钛矿结构的压电体层、以及形成在该压电体层的与上述 第1电极相反侧的第2电极,用于使上述压力发生室产生压力,从上述 喷嘴开口喷出液滴;
上述压电体层的A位点存在铅、锆及钛,
上述压电体层的B位点存在铅、锆及钛。
2.根据权利要求1所述的液体喷射头,其特征在于,
上述压电体层的存在于A位点的铅的量比存在于A位点的锆的量 多,并且比存在于A位点的钛的量多。
3.根据权利要求1或2所述的液体喷射头,其特征在于,
上述压电体层的存在于B位点的铅的量比存在于B位点的锆的量 少,并且比存在于B位点的钛的量少。
4.根据权利要求1或2所述的液体喷射头,其特征在于,
上述压电体层在(100)面上优先取向,并且具有单斜晶系结构。
5.根据权利要求1或2所述的液体喷射头,其特征在于,
上述压电体层的存在于A位点的钛的量比上述压电体层的存在于 A位点的锆的量多。
6.一种液体喷射装置,其特征在于,具有权利要求1~5中任意一 项所述的液体喷射头。
7.一种执行元件装置,其特征在于,具有能够变位地设于基板上的 压电元件,该压电元件具有:第1电极;形成在该第1电极上、并具有 以通式ABO3表示的钙钛矿结构的压电体层;和形成在该压电体层的与 上述第1电极相反侧的第2电极;
上述压电体层的A位点存在铅、锆及钛,
上述压电体层的B位点存在铅、锆及钛。
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