[发明专利]键盘设备有效
申请号: | 200910178034.9 | 申请日: | 2009-09-25 |
公开(公告)号: | CN101685626A | 公开(公告)日: | 2010-03-31 |
发明(设计)人: | 北岛充;铃木浩继 | 申请(专利权)人: | 雅马哈株式会社 |
主分类号: | G10H1/34 | 分类号: | G10H1/34 |
代理公司: | 隆天国际知识产权代理有限公司 | 代理人: | 聂慧荃;潘培坤 |
地址: | 日本静冈*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 键盘 设备 | ||
技术领域
本发明涉及一种键盘设备,该键盘设备具有由树脂一体地形成并可枢转 地支撑多个键的框架,更具体地涉及一种具有下述音锤的键盘设备,这些音 锤被支撑在框架上以使得每个音锤与对应的键一起枢转并且对该键施加惯 性。
背景技术
常规地,已知的是此类键盘设备,其中由树脂一体地形成并且可枢转地 支撑多个键的框架适于被支撑在乐器主体上。在这些常规的键盘设备之中, 一些键盘设备包括多个音锤,这些音锤被支撑在框架上并且各适于与对应的 键一起枢转且对键的枢转运动施加惯性(日本专利第3819136号公报及日本 特开第7-181959号公报)。
在日本专利第3819136号公报以及日本特开第7-181959号公报中披露的 键盘设备中,每个音锤均适于由对应的键驱动以围绕音锤支撑部枢转,并且 止动件设置在框架的后下部或前下部。在非键按压状态下,这些音锤在音锤 的质量所集中于的一个端部(接触部)与止动件的上表面接触,由此限制音 锤的初始枢转位置,并间接限制各个键的键按压初始位置。
因此,在非键按压状态下键的键按压表面(即上表面)的高度位置由止 动件与音锤的这些接触部之间的接触状态确定。
在日本专利第3819136号公报中披露的键盘设备中,由于在每个音锤的 接触部与对应的音锤支撑部之间的距离较长,使得当音锤回复到其初始枢转 位置时接触部以高速与止动件形成接触。因此,止动件由于音锤的反复回复 运动而容易变形,导致这些键的键按压表面的高度位置发生变化。如果使止 动件的厚度增大来抑制止动件变形,则止动件的不同部分的厚度易于大幅变 化,导致这些键的键按压表面的高度位置发生变化。
如果每个音锤的音锤支撑部与接触部之间的距离较长,则音锤在音锤支 撑部与接触部之间的区域中的翘曲与变形影响对应的键的键按压初始位置, 从而导致各个键的键按压表面的高度位置发生变化。
发明内容
本发明提供一种键盘设备,其包括音锤,每个音锤均适于以质量不集中 的半部与限制音锤的初始枢转位置的初始止动件的下表面接触,由此减少每 个音锤与止动件接触的接触力,从而能够减少初始止动件的所需厚度,并且 能够容易地使各个键在非键按压状态下的键按压表面的高度位置一致。
根据本发明的第一方案,提供一种键盘设备,其包括:框架,具有多个 键支撑部和多个音锤支撑部,并且由树脂一体地形成,所述框架适于被支撑 在乐器主体上;多个键,被相互并列地设置并各由对应的一个键支撑部支撑, 以便在被按压时进行枢转运动;多个音锤,被相互并列地设置以与这些键中 的相应一个相对应,每个音锤均由对应的一个音锤支撑部支撑在对应的键下 方的位置,以便与对应的键一起围绕所述音锤支撑部枢转并且对键的枢转运 动施加惯性;初始止动件,具有下表面并且与框架一体地或分离地设置在所 述框架上;以及初始止动件安装部,一体地形成于所述框架上并且安装有所 述初始止动件,其中这些音锤适于在非键按压状态下与所述初始止动件的下 表面接触,由此限制所述音锤在键按压前向行程中的初始枢转位置,进而限 制所述键的键按压初始位置。
根据本发明的第二种方案,提供一种键盘设备,其包括:框架,具有键 支撑部和音锤支撑部,并且由树脂一体地形成,所述框架适于被支撑在乐器 主体上;多个键,被相互并列地设置并且各由对应的一个键支撑部支撑,以 便在被按压时进行枢转运动;多个音锤,被相互并列地设置以与这些键中的 相应一个相对应,每个音锤均由对应的一个音锤支撑部支撑在对应的键下方 的位置,以便与对应的键一起围绕所述音锤支撑部枢转并对所述键的枢转运 动施加惯性;初始止动件,具有下表面并且与框架一体地或分离地设置在所 述框架上;以及初始止动件安装部,一体地形成在所述框架上并安装有所述 初始止动件,其中所述音锤均具有带有质量集中部的第一半部和相对于对应 的一个音锤支撑部位于与所述第一半部相对的一侧的第二半部,并且处于非 键按压的状态下的音锤的第二半部适于因所述音锤的自身重量而与所述初 始止动件的下表面接触,由此限制所述音锤在键按压前向行程中的初始枢转 位置,进而限制所述键的键按压初始位置。
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