[发明专利]电路装置及其制造方法有效

专利信息
申请号: 200910178097.4 申请日: 2009-09-29
公开(公告)号: CN101714533A 公开(公告)日: 2010-05-26
发明(设计)人: 中里功;吉羽茂治;关端隆 申请(专利权)人: 三洋电机株式会社;三洋半导体株式会社
主分类号: H01L23/31 分类号: H01L23/31;H01L23/29;H01L21/56
代理公司: 北京林达刘知识产权代理事务所 11277 代理人: 刘新宇;张会华
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 电路 装置 及其 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种电路装置,其特征在于,包括:

半导体元件;

导电部件,其经由金属细线与上述半导体元件相连接;以 及

密封树脂,其由混入了填料的树脂材料构成,用于对上述 半导体元件和上述金属细线进行树脂密封,

上述密封树脂的遮光性比上述填料的遮光性优异;

使覆盖上述金属细线的最顶部的上述密封树脂的厚度比上 述填料的最大直径小,并且位于最表层的上述填料被上述树脂 材料覆盖。

2.根据权利要求1所述的电路装置,其特征在于,

覆盖上述金属细线的最顶部的上述密封树脂的厚度为 40μm以下。

3.根据权利要求2所述的电路装置,其特征在于,

上述密封树脂的表面为梨皮状表面。

4.根据权利要求3所述的电路装置,其特征在于,

上述填料呈球状的形状。

5.根据权利要求4所述的电路装置,其特征在于,

在上述密封树脂的主面上未露出上述填料。

6.根据权利要求5所述的电路装置,其特征在于,

上述导电部件为形成在基板的主面上的导电图案,

以覆盖上述基板的主面的方式形成上述密封树脂。

7.根据权利要求6所述的电路装置,其特征在于,

在上述密封树脂的主面上,通过对上述密封树脂照射激光 来去除上述密封树脂的局部,由此来标记识别标记,上述识别 标记的深度为10μm以下。

8.一种电路装置的制造方法,其特征在于,包括如下工序:

经由金属细线将形成在半导体元件的上表面的电极和导电 部件连接起来的工序;以及

通过使用了注塑模具的注塑成形,用密封树脂覆盖上述半 导体元件和上述金属细线的工序,该密封树脂由混入了填料的 树脂材料构成,上述密封树脂的遮光性比上述填料的遮光性优 异;

在进行覆盖的工序中,使覆盖上述金属细线的最顶部的上 述密封树脂的厚度比上述填料的最大直径小,并且位于最表层 的上述填料被上述树脂材料覆盖。

9.根据权利要求8所述的电路装置的制造方法,其特征在 于,

在上述进行覆盖的工序中,进行了采用热固性树脂作为上 述树脂材料的传递模塑法。

10.根据权利要求9所述的电路装置的制造方法,其特征在 于,

在上述进行覆盖的工序中,由剥离片覆盖上述注塑模具的 内壁。

11.根据权利要求10所述的电路装置的制造方法,其特征 在于,

上述剥离片的面向内侧的面为梨皮状表面。

12.根据权利要求11所述的电路装置的制造方法,其特征 在于,

还具有在上述密封树脂的主面上,通过对上述密封树脂照 射激光来去除上述密封树脂的局部,由此来标记识别标记的工 序,上述识别标记的深度为10μm以下。

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