[发明专利]气体注入装置及成膜装置

权利要求书

1.一种气体注入装置，其中，

包括：

注入装置主体，具有气体导入口及气体流路；

多个气体流出孔，沿着注入装置主体的长度方向排列在注 入装置主体的壁部；

引导构件，被设置成在该引导构件与注入装置主体的外表 面之间形成有沿着该注入装置主体的长度方向延伸的狭缝状的 气体喷出口，将从气体流出孔流出的气体引导到气体喷出口，

注入装置主体的壁部具有平坦部分，在平坦部分具有多个 气体流出孔，狭缝状的气体喷出口位于平坦部分的一缘侧，

引导构件与平坦部分平行。

2.根据权利要求1所述的气体注入装置，其中，

注入装置主体为方筒状。

3.一种成膜装置，该成膜装置反复进行在真空容器内将互 相反应的至少2种反应气体按顺序供给到基板的表面上的供给 循环，在基板表面层叠多层反应生成物层而形成薄膜，其中，

包括：

真空容器内的旋转台；

基板载置区域，将基板载置于旋转台上；

第1反应气体供给部及第2反应气体供给部，在旋转台的旋 转方向上互相分开地设置，第1反应气体供给部用于向旋转台 的基板载置区域侧的面供给第1反应气体，第2反应气体供给部 用于向旋转台的基板载置区域侧的面供给第2反应气体；

分离区域，用于分离被供给第1反应气体的第1处理区域和 被供给第2反应气体的第2处理区域的气氛，在旋转台的旋转方 向上位于第1处理区域与第2处理区域之间，具有供给分离气体 的分离气体供给部；

排气口，对真空容器内进行真空排气；

第1反应气体供给部及第2反应气体供给部中至少一方是 权利要求1所述的气体注入装置，气体注入装置在与旋转台的 旋转方向交叉的方向上延伸，气体注入装置的气体喷出口与旋 转台相对。

4.根据权利要求3所述的成膜装置，其中，

在真空容器内的中心部具有中心部区域，该中心部区域用 于分离第1处理区域和第2处理区域的气氛，并具有向旋转台的 基板载置面侧喷出分离气体的分离气体喷出孔；

排气口用于排出扩散到分离区域的两侧的分离气体以及从 中心部区域喷出的分离气体和反应气体。

5.根据权利要求4所述的成膜装置，其中，

中心部区域是由旋转台的旋转中心部和真空容器的上表面 侧划分而成的，被分离气体吹扫。

6.根据权利要求4所述的成膜装置，其中，

中心部区域包括：在真空容器的中心部设置在上表面与底 面之间的支柱；以及围着支柱且绕铅直轴线旋转自如的旋转套 筒；

旋转套筒是旋转台的旋转轴。

7.根据权利要求3所述的成膜装置，其中，

分离区域具有顶面，该顶面位于分离气体供给部的旋转方 向的两侧，在该顶面与旋转台之间形成供分离气体从分离区域 向第1及第2处理区域的方向流动的狭窄的空间。

8.根据权利要求3所述的成膜装置，其中，

排气口经由旋转台的周缘与真空容器的内周壁之间的间隙 而排气。

9.根据权利要求3所述的成膜装置，其中，

分离气体供给部具有从旋转台的旋转中心部及周缘部中的 一方朝向另一方排列的喷出孔。

10.根据权利要求3所述的成膜装置，其中，

排气口设置在分离区域的旋转方向两侧，专用于排出各反 应气体。

11.根据权利要求3所述的成膜装置，其中，

分离区域的顶面的真空容器的外缘侧部位是与旋转台的外 端面相对地弯曲的真空容器的内周壁的一部分，顶面的弯曲的 部位与旋转台的外端面之间的间隙具有防止反应气体进入的尺 寸。

12.根据权利要求3所述的成膜装置，其中，

在分离区域的顶面中，相对于分离气体供给部而处于旋转 台的旋转方向上游侧的部位越靠近外缘，旋转方向的宽度越大。