[发明专利]光刻设备和器件制造方法有效
申请号: | 200910178543.1 | 申请日: | 2009-09-27 |
公开(公告)号: | CN101713929A | 公开(公告)日: | 2010-05-26 |
发明(设计)人: | R·T·P·考姆彭;M·M·P·A·沃梅尤恩;A·B·杰尤恩克;E·R·鲁普斯卓;J·J·奥腾斯;P·斯密特斯;H·J·M·凡阿毕伦;A·A·梅尤恩迪杰克斯;M·霍本;R·W·A·H·理纳尔斯 | 申请(专利权)人: | ASML荷兰有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20;G03F9/00 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 王新华 |
地址: | 荷兰维*** | 国省代码: | 荷兰;NL |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 光刻 设备 器件 制造 方法 | ||
1.一种光刻设备,包括:
照射系统,其配置用于调节辐射束;
支撑结构,其构造用于支撑图案形成装置,所述图案形成装置能够 将图案在所述辐射束的横截面上赋予所述辐射束,以形成图案化的辐射 束;
反射镜块,其设置有构造用以保持衬底的衬底台;和
投影系统,其配置用以将所述图案化的辐射束投射到所述衬底的目 标部分上,
狭槽设置于反射镜块的用于夹持所述衬底台的夹持区域和用于将致 动器连接到所述反射镜块的致动器区域之间。
2.根据权利要求1所述的设备,其中,所述狭槽沿基本上垂直于所述 夹持区域的方向设置。
3.根据权利要求1所述的设备,其中,所述狭槽沿基本上平行于所述 夹持区域的方向设置。
4.根据权利要求1所述的设备,其中,所述反射镜块包括具有高于 100GPa的杨氏模量的材料。
5.根据权利要求1所述设备,其中,突节设置在所述反射镜块和所述 衬底台之间且在所述反射镜块上的用于夹持所述衬底台的整个夹持区域 上。
6.根据权利要求5所述的设备,其中,所述夹持区域小于所述衬底台 的尺寸。
7.根据权利要求5所述的设备,其中,所述突节具有大于0.15mm的 长度。
8.根据权利要求7所述的设备,其中,所述突节具有大于2mm的长 度。
9.根据权利要求5所述的设备,其中,所述突节具有比连接所述反射 镜块的连接区域大的、接触所述衬底台的接触表面。
10.根据权利要求5所述的设备,其中,在与其中配置用于定位所述 反射镜块的致动器连接到所述反射镜块的致动器区域靠近的区域内的所 述夹持区域上没有突节。
11.根据权利要求5所述的设备,其中,所述突节包括柔性突节和附 加突节,所述柔性突节相对于所述附加突节具有增大的柔性,其中所述柔 性突节位于与其中配置用于定位所述反射镜块的致动器连接到所述反射 镜块的致动器区域靠近的区域内,而所述附加突节位于所述夹持区域的剩 余区域内。
12.根据权利要求5所述的设备,其中,所述突节包括粗糙的接触表 面。
13.根据权利要求5-12中任一项所述的设备,其中,设置在所述夹持 区域中心的突节具有比设置在所述夹持区域边缘处的突节的刚性更高的 刚性。
14.根据权利要求5-12中任一项所述的设备,其中,所述反射镜块和 所述衬底台通过连接器元件和/或通过刚性肋在水平平面内以高的刚度耦 合。
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