[发明专利]固态摄像元件、固态摄像装置及其制造方法有效
申请号: | 200910180640.4 | 申请日: | 2009-10-26 |
公开(公告)号: | CN101728410A | 公开(公告)日: | 2010-06-09 |
发明(设计)人: | 舛冈富士雄;中村广记 | 申请(专利权)人: | 日本优尼山帝斯电子股份有限公司 |
主分类号: | H01L27/148 | 分类号: | H01L27/148;H01L21/82;H04N5/335 |
代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所 11277 | 代理人: | 刘新宇;张会华 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 固态 摄像 元件 装置 及其 制造 方法 | ||
1.一种固态摄像元件,其特征在于,具有:
第2导电型平面状半导体层;
第1导电型平面状半导体层,其形成于上述第2导电型平面 状半导体层上;
孔,其形成于上述第1导电型平面状半导体层;
第1导电型高浓度杂质区域,其形成于在上述第1导电型平 面状半导体层所形成的孔的底部;
元件隔离区域,其由形成于在上述第1导电型平面状半导体 层所形成的孔的侧壁的其中一部分上,且与上述第1导电型高浓 度杂质区域相连接的第1导电型高浓度杂质所构成;
第2导电型光电转换区域,其形成于在上述第1导电型平面 状半导体层所形成的孔的底部所形成的上述第1导电型高浓度 杂质区域的下部、以及形成于在上述第1导电型平面状半导体层 所形成的孔的另一部分侧壁的底部,且通过受光而使自身电荷 量产生变化;
传输电极,其隔着栅极绝缘膜而形成于在上述第1导电型平 面状半导体层所形成的孔的侧壁上;
第2导电型CCD通道区域,其形成于上述第1导电型平面状 半导体层表面、以及在上述第1导电型平面状半导体层所形成的 孔的另一部分侧壁的上部;以及
读取通道,其形成于由上述第2导电型光电转换区域和上述 第2导电型CCD通道区域所夹的区域。
2.一种固态摄像装置,其特征在于:
其由多个权利要求1所述的固态摄像元件排列成行列状而成。
3.如权利要求2所述的固态摄像装置,其特征在于,
上述第2导电型CCD通道区域由至少在上述第1导电型平面 状半导体层上所形成的相邻各孔列间沿列方向延伸的第2导电 型杂质区域所构成,
以使上述第2导电型CCD通道区域互相不接触的方式设置 由第1导电型高浓度杂质所构成的元件隔离区域。
4.如权利要求3所述的固态摄像装置,其特征在于,
多个传输电极,包含有隔着栅极绝缘膜而形成于在上述第1 导电型平面状半导体层所形成的孔的侧壁上的传输电极,该多 个传输电极在形成于上述第1导电型平面状半导体层的各孔行 间沿行方向延伸,且离开预定间隔地排列,从而沿着上述第2导 电型CCD通道区域传输上述固态摄像元件所产生的信号电荷。
5.一种固态摄像装置,其特征在于:
沿第1方向以第1间隔排列多个如权利要求1所述的固态摄 像元件而形成第1固态摄像元件列,沿上述第1方向以上述第1 间隔排列多个如权利要求1所述的固态摄像元件而形成第2固态 摄像元件列,且该第2固态摄像元件列在上述第1方向上相对于 上述第1固态摄像元件列错开预定量,由该第1固态摄像元件列 以及该第2固态摄像元件列隔开第2间隔地排列而成的元件列的 组,沿上述第1方向错开预定量地隔开上述第2间隔而排列多组。
6.如权利要求5所述的固态摄像装置,其特征在于,
上述第2导电型CCD通道区域至少在上述第1导电型平面状 半导体层上所形成的相邻各孔列间,由第2导电型杂质区域构 成,该第2导电型杂质区域经过形成于该相邻的上述第1导电型 平面状半导体层的孔列中的形成于各上述第1导电型平面状半 导体层的相邻孔之间,并沿列方向延伸,
以使上述第2导电型CCD通道区域互相不接触的方式而设 置由第1导电型高浓度杂质所构成的元件隔离区域。
7.如权利要求6所述的固态摄像装置,其特征在于,
上述传输电极在形成于上述第1导电型平面状半导体层的 相邻各孔行间,经过形成于该上述第1导电型平面状半导体层的 孔行中的形成于各上述第1导电型平面状半导体层的相邻孔之 间而沿行方向延伸,且按相隔预定间隔的方式排列,从而能沿 着上述第2导电型CCD通道区域传输上述固态摄像元件所产生 的信号电荷。
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